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        分析師:ASML是導致內(nèi)存芯片供不應求局面的罪魁之一

        作者: 時間:2010-08-02 來源:CNBeta 收藏

          對于內(nèi)存廠商來說,已經(jīng)過去的2009年就像是一場噩夢。而2010年情況則大有好轉(zhuǎn),可是今年內(nèi)存廠商卻遇上了芯片供貨緊缺,芯片產(chǎn)品投產(chǎn)準備時間加 長,產(chǎn)品價格居高不下的問題。在本周三舉辦的Memcon會議上,一位分析師將今年內(nèi)存廠商遇到的這些問題歸結(jié)為由內(nèi)存廠商自身的問題而引起,不過著名光 刻設備制造商則也在被指責之列。

        本文引用地址:http://www.104case.com/article/111369.htm

         

          Objective Analysis市調(diào)公司的分析師Jim Handy認為內(nèi)存市場的上揚期恐怕不久便會結(jié)束,他并稱2011年中期或2012年間市場將再度陷入供過于求的局面。而Denali公司的分析師Lane Mason也認為至少在2011年中期以前內(nèi)存市場的需求將保持較強勁的走勢。他認為屆時市場需求將逐步放緩或出現(xiàn)下挫現(xiàn)象。

          不過就目前的情況而言,的供貨狀況則顯得異常緊張,各大廠商的工廠已經(jīng)在以最大產(chǎn)能95%的程度開足馬力生產(chǎn)。

          分析師們認為造成目前內(nèi)存芯片市場供貨緊張局面的因素主要有三個,首先是未能正確預計今時的市場需求狀況;二是廠商們本應有能力滿足市場的需求,但是由于內(nèi)存低迷期廠商在產(chǎn)能建設方面投資過少而造成了今時的產(chǎn)能不足;最后,分析師們將批評的矛頭指向了著名光刻設備制造商公司,這家公司生產(chǎn)的193nm沉浸式光刻機是內(nèi)存廠商生產(chǎn)50nm制程內(nèi)存芯片的必備設施。

          分析師認為,相比對手佳能和尼康公司而言,在193nm沉浸式光刻機市場,公司是絕對的市場大佬。不過這家公司在193nm沉浸式光刻機的供貨機臺數(shù)方面則僅達到期望值的一半。

          根據(jù)ASML公司最近公布的財報數(shù)據(jù),公司今年第二季度的營收額漲勢喜人,超過了分析師的預期,公司的銷售營收比去年同期提升了三倍左右。

          相比之下,尼康公司也已經(jīng)推出了193nm沉浸式光刻機,但是他們生產(chǎn)的此類設備多數(shù)均供貨給了Intel公司,而佳能公司在高端光刻機市場上則已經(jīng)逐漸淡出人們的視野。



        關鍵詞: ASML 內(nèi)存芯片

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