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        FPC焊點(diǎn)剝離失效分析

        發(fā)布人:新陽(yáng)檢測(cè) 時(shí)間:2023-11-20 來(lái)源:工程師 發(fā)布文章

        一、案例背景

        FPC在后續(xù)組裝過(guò)程中,連接器發(fā)生脫落。在對(duì)同批次的樣品進(jìn)行推力測(cè)試后,發(fā)現(xiàn)連接器推力有偏小的現(xiàn)象。據(jù)此進(jìn)行失效分析,明確FPC連接器脫落原因。

        #1、#2樣品連接器脫落連接器脫落;#3樣品連接器未脫落;#4樣品連接器推力OK。

        二、分析過(guò)程

        #1 樣品

        1、外觀分析

        wKgZomVbGXCAXulYAAEtnFM8-po921.jpg

        wKgaomVbGXGAcfxPAAJhCHKtqIo845.jpg

        測(cè)試結(jié)果:剝離面呈現(xiàn)灰黑色,表面平整,有少量錫殘留

        2、剝離面分析

        ▼ SEM分析

        wKgZomVbGXaALwctAACxtEmVqB8210.jpg

        wKgaomVbGXeAOX-TAADSxBMtMMo579.jpg

        測(cè)試結(jié)果:剝離面平整,表面呈現(xiàn)Ni晶格狀態(tài),有少量錫殘留。

        ▼ EDS分析

        wKgZomVbGXiAbbeWAAMZd5Tzlxc823.jpg

        測(cè)試結(jié)果:P含量為14.92%,呈異常狀態(tài)。

        3、失效點(diǎn)斷面分析

        ▼ 斷面金相分析

        wKgaomVbGXiAO5jGAAEHjYbKwN4529.jpg暗場(chǎng)光

        wKgZomVbGXmALJPXAADmbRLqicc448.jpg明場(chǎng)光

        測(cè)試結(jié)果:FPC側(cè)焊盤(pán)表面焊錫剝離,兩端有焊錫殘留。

        ▼ 斷面SEM/EDS分析

        1)PCB側(cè)切片SEM分析:

        wKgaomVbGXmAS8zaAAEwmzykU8E375.jpg

        測(cè)試結(jié)果:剝離面處于FPC富磷層,富磷層厚度高達(dá)1.24μm,且FPC Ni層存在貫穿性Ni腐蝕。

        2)FPC側(cè)切片SEM分析:

        wKgZomVbGXuAJE0OAAHbFcSgKDs916.jpg

        測(cè)試結(jié)果:FPC殘留錫位置有明顯的貫穿性Ni腐蝕,形成的IMC層呈現(xiàn)塊狀。部分位置IMC層偏厚,富磷層厚度為0.69μm。

        3)FPC側(cè)切片EDS分析:

        wKgaomVbGXyAQu-vAAEyR_e4qgA161.jpg

        wKgZomVbGX6AOUqTAADQOkHKe1s574.jpg

        測(cè)試結(jié)果:富磷層P含量為21.24%(說(shuō)明Ni過(guò)渡析出),正常Ni層P含量為9.97%。

        #2 樣品

        1、外觀分析

        wKgZomVbGX6AYPP9AAFMNMdUYTA346.jpg#2-1

        wKgaomVbGX-AcJV5AAFOa2bOtic004.jpg#2-2

        測(cè)試結(jié)果:剝離面呈現(xiàn)灰黑色,表面平整,有少量錫殘留。

        2、剝離面分析

        ▼ SEM分析

        wKgZomVbGX-AQCqSAAC6qdzFXj8496.jpg

        wKgaomVbGYCAK9UsAAFQGLkXV3w726.jpg

        測(cè)試結(jié)果:剝離面平整,表面呈現(xiàn)Ni晶格狀態(tài),僅有少量錫殘留。

        ▼ EDS分析

        wKgZomVbGYCAIRAeAALqJuauP_w982.jpg

        測(cè)試結(jié)果:P含量為15.32%,呈現(xiàn)異常狀態(tài)。

        3、失效點(diǎn)斷面分析

        ▼ 斷面金相分析

        wKgaomVbGYGACZsSAAD9sd7HF34576.jpg暗場(chǎng)光

        wKgZomVbGYGAFqJJAADpXwDtgyU146.jpg明場(chǎng)光

        測(cè)試結(jié)果:PCB側(cè)焊盤(pán)表面焊錫剝離,引腳兩側(cè)有焊錫殘留。

        ▼ 斷面SEM/EDS分析

        1)PCB側(cè)切片SEM分析:

        wKgaomVbGYKAPjMIAAI1R51IXn0200.jpg

        測(cè)試結(jié)果:FPC殘留錫位置形成的IMC層呈現(xiàn)塊狀,厚度嚴(yán)重超標(biāo)。同時(shí)富磷層厚度高達(dá)1.20μm,F(xiàn)PC Ni層存在腐蝕現(xiàn)象。

        2)局部SEM分析:

        wKgZomVbGYKAGJ6lAADhZEU1BrU115.jpg

        wKgaomVbGYSAM7-jAAEe0R8ytbc392.jpg

        測(cè)試結(jié)果:剝離面處于FPC富磷層,富磷層厚度為1.15μm。

        3)FPC側(cè)切片EDS分析:

        wKgZomVbGYSAc9cyAAHS8fvvKOA001.jpg

        wKgaomVbGYWAf7L0AAFoQY9GA0k873.jpg

        測(cè)試結(jié)果:富磷層P含量為16.27%(說(shuō)明Ni過(guò)渡析出),正常Ni層P含量為11.37%,IMC層Cu含量偏高。

        4、MARK點(diǎn)PAD分析

         選取FPC上的一個(gè)MRAK點(diǎn),采用化學(xué)褪金后對(duì)其進(jìn)行觀察分析

        1)表面SEM分析:

        wKgaomVbGYiAGg05AAGMmZaZsK8074.jpg

        wKgZomVbGYmAEnWKAAERVXVHFQI081.jpg

        測(cè)試結(jié)果:MARK點(diǎn)褪金后觀察其表面狀態(tài),有明顯的Ni層腐蝕異常。

        2)表面EDS分析:

        wKgaomVbGYmAGFLtAAFIoVfJZ2s606.jpg

        wKgZomVbGYqAIASXAAGB9joVPGY454.jpg

        測(cè)試結(jié)果:表面P含量最大值11.33%。

        3)切片斷面SEM分析:

        wKgaomVbGYqAJUXJAAEWmsiSVL8636.jpg

        wKgZomVbGYuAf9ZgAADOT8P_qUk244.jpg

        測(cè)試結(jié)果:Ni層未見(jiàn)明顯異常。

        4)斷面EDS分析:

        wKgaomVbGYyAXOWoAAFBYXw4SV4805.jpg

        wKgZomVbGYyAEfmOAAE6DXt7xCo642.jpg

        測(cè)試結(jié)果:Ni層P含量9.97%。

        #3 樣品

        1、外觀分析

        wKgaomVbGY2ALsNkAAHT34zmVL0068.jpg

        wKgZomVbGY2AflSVAAG8w95cTT8900.jpg

        測(cè)試結(jié)果:未發(fā)現(xiàn)明顯異常。

        2、X-RAY分析

        wKgaomVbGY6ACG2KAADza9VHEh4635.jpg#3-1

        wKgZomVbGY-AS0bqAAD48DSLSBo383.jpg#3-2

        wKgaomVbGY-AD86oAADl1R_QnWc969.jpg#3-3

        測(cè)試結(jié)果:#3樣品焊點(diǎn)氣泡較多(圖片中白色陰影為焊點(diǎn))

        3、連接器焊點(diǎn)斷面分析

        ▼ 斷面金相分析

        wKgZomVbGZCACdnPAAEbC49tuhU949.jpg暗場(chǎng)光wKgaomVbGZCAIN-NAAD2_bR-4lI122.jpg明場(chǎng)光

        測(cè)試結(jié)果:焊接潤(rùn)濕性良好。

        ▼ 斷面SEM/EDS分析

        1)SEM分析:

        wKgZomVbGZGAFn0gAAI-0zRJCrg604.jpg

        測(cè)試結(jié)果:焊接IMC層呈現(xiàn)離散、塊狀、厚度大等異常。富磷層厚度遠(yuǎn)超正常(0.2-0.5μm)狀態(tài),在0.8μm以上。

        3)EDS分析:

        wKgaomVbGZGAZ0KuAAEN-FRGRwk983.jpg

        wKgZomVbGZKAM5CsAADT8Q4tJug025.jpg

        測(cè)試結(jié)果:富磷層P含量為12.59%,正常Ni層P含量為9.18%。

        #4 樣品

        1、外觀分析

        wKgaomVbGZKAeaaRAAHUUJTzE-k854.jpg

        wKgZomVbGZOAdTp5AAGx4aDtku4970.jpg

        測(cè)試結(jié)果:未發(fā)現(xiàn)明顯異常。

        2、X-RAY分析

        wKgaomVbGZOAcnvdAADAgDFpWHM193.jpg#4-1wKgZomVbGZSAEdhiAADleLKl5so216.jpg#4-2

        測(cè)試結(jié)果:焊點(diǎn)氣泡較多。

        3、連接器焊點(diǎn)斷面分析

        ▼ 斷面SEM/EDS分析

        1)SEM分析:

        wKgaomVbGZWAYCVrAAI38_gVbLs700.jpg

        測(cè)試結(jié)果:富磷層1.03μm,IMC層呈現(xiàn)塊狀、超厚等現(xiàn)象。整體說(shuō)明焊接質(zhì)量存在明顯的缺陷。

        2)EDS分析:

        wKgZomVbGZWAcRS_AAFKV6AXW7A076.jpg

        wKgaomVbGZaAcK3GAAF1u8cn3Fs771.jpg

        測(cè)試結(jié)果:富磷層P含量為16.04%(說(shuō)明Ni過(guò)渡析出),正常Ni層P含量為8.51%,IMC層Cu含量偏高。

        三、分析結(jié)果

        綜合以上分析,推斷連接器脫落的原因?yàn)镕PC鎳層腐蝕及焊點(diǎn)強(qiáng)度低,具體失效解析如下:

        ① FPC鎳鍍層存在明顯的鎳腐蝕,降低了焊點(diǎn)的連接強(qiáng)度;

        ② 連接器與FPC焊接形成的富磷層在1μm左右,IMC層呈現(xiàn)塊狀、離散、超厚的異常現(xiàn)象,遠(yuǎn)超出合理范圍,在這種狀態(tài)下,焊點(diǎn)強(qiáng)度會(huì)明顯降低。

        四、改善建議

        ① 對(duì)鎳腐蝕現(xiàn)象進(jìn)行工藝控制;

        ② 對(duì)SMT回流制程參數(shù)進(jìn)行優(yōu)化,使IMC及富磷層狀態(tài)符合要求(IMC厚度0.5-3.5μm,連續(xù)、致密,富磷層厚度0.2-0.5μm)。


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