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        手把手教你測IGBT內部電容

        發布人:橘子說IGBT 時間:2019-11-29 來源:工程師 發布文章

        目前,IGBT技術正全面快速的更新換代,IGBT器件也在各個領域廣泛應用,為了進一步了解IGBT特性,從而滿足器件性能、參數的進一步提升和優化,對IGBT內部結電容的準確測量也是非常必要的。

        一、IGBT內部結電容有哪些

        由于設計結構,IGBT內部存在許多寄生電容,這些等效電容可以簡化為IGBT各級之間的電容:




        1、輸入電容Cies:Cies=CGC+CGE

        當輸入電容充電致閾值電壓時器件才能開啟,放電致一定值時器件才可以關斷,因此主要影響器件的開關速度、開關損耗。

        2、輸出電容Coes:Coes=CGC+CCE

        主要影響器件VCE的變化,限制開關轉換過程中的dv/dt。Coes造成的損耗一般可以被忽略。

        3、反向傳輸電容Cres:Cres=CGC

        也常叫米勒電容,主要影響器件柵極電壓VGE和VCE的耦合關系。

        二、IGBT開啟過程中電容如何充電

        第一階段:施加的柵極電流對CGE充電,柵壓VGE上升,至閾值電壓VGE(th)。過程中集電極和發射極之間電壓是無變化的,ICE為零。這段時間稱為死區時間。

        第二階段:柵極電流對CGE和CGC充電,IGBT的集電極電流ICE開始增加,并達到最大負載電流IC,由于存在二極管的反向恢復電流,這個過程與MOSFET的開啟有所不同。柵壓VGE達到米勒平臺電壓。

        第三階段:柵極電流繼續對CGE和CGC充電,此時柵壓VGE保持不變,但是VCE開始快速下降。

        第四階段:柵極電流繼續對CGE和CGC充電,VCE緩慢下降成穩態電壓,米勒電容隨著VCE的減小而增大。此時柵壓VGE仍保持在米勒平臺上。

        第五階段:柵極電流繼續對CGE充電,柵壓VGE開始增大,IGBT完全開啟。

        其中,第三、四階段柵極出現一個恒定的電壓,這種現象叫作米勒平臺或米勒電壓。這段時間,柵極的充電過程是由CGC決定的。VCE不斷降低,電流IGC通過CGC給柵極放電,這部分電流需要驅動電流IDirver來補償。

        三、IGBT電容如何測試

        1、測試設備

        Keysight B1505A 功率器件分析儀/曲線追蹤儀、N1272A和N1273A組件。

        Keysight B1505A是一個功能強大的測量和表征工具,通過連接N1272A和N1273A組件,能夠完成IGBT器件CV測試。

        2、測試頻率的選擇

        由于測試電路中必然存在雜散電感和電容,如果將測試電路簡化為一個RCL串聯電路,那么穩態時,電壓和電流的關系為

        ,化簡即:

        在模塊封裝和測試電路中,電感L的數量級一般為nH級,器件結電容C的數量級一般為nF級,當測試選擇f=1MHz時,

        的10^3-10^6倍,L可忽略,只側重電容C的值。

        3、測試過程與結果

        在完成設備自身的電容校準和補償后,B1505A可以生成一個電容校準文件。測試時,調用此文件進行設備配置,可完成高精度的測量。

        ①輸入電容Cies

        IGBT器件與設備正確連接后,根據測試條件,將VGS設置為0V,頻率設置為1MHz,調整VCE電壓掃描范圍,開始測試。測試完后可得到VCE-Cies曲線,在曲線中某一VCE值對應的縱坐標即為Cies。下圖分別為測試電路和測試圖:

        由于Cies=CGC+CGE,為了消除CCE的影響,器件結電容C的數量級一般為nF級,在CE兩端并聯一個1uF的電容,那么CCE和此電容并聯所得的電容約為1uF,屏蔽了CCE。并聯后的電容又與CGC串聯,1uF的電容又被CGC屏蔽了。輸入電容即為CGC和CGE并聯所得。

        其中,電路中GE間的電阻(100kΩ)作用是虛短路,防止IGBT狀態的不穩定。CE間的電阻(100kΩ)利用高阻抗性,避免電源部分對電路測量的影響。GE間的電容(100nF)是為了隔絕直流電壓直接加在設備上。

        ②同理,輸出電容Coes

        由于Coes=CGC+CCE,考慮如何消除CGE的影響。直接使C極和E極短路,則CGC與CCE并聯,所得的電容值為Coes。

        其中,GE和CE間的電容均為100nF,GE和CE間的電阻均為100kΩ。

        9.JPG

        ③反向恢復電容Cres

        其中,GE和CE間的電容均為100nF,GE和CE間的電阻均為100kΩ。

        10.JPG

        將三條電容曲線放在一張圖中,則可得到下圖:

        11.JPG

        可以看出,IGBT的結電容隨著VCE的增大而逐漸減小,此現象尤其在低電壓0~5V時比較明顯。

        一般認為,柵極通過氧化層與其它層之間的等效電容不隨電壓的變化而變化(包括柵極與芯片金屬層之間的C1,柵極與N-區之間的C2,柵極和P溝道之間的C3,以及柵極與N+發射區之間的C4)。

        半導體內部其他電容是空間電荷區作用的結果,會隨著電壓的變化而變化(包括半導體材料上表面與N-區之間的C5,與P溝道之間的C6,以及P溝道和N-區之間的C7)。這些電容可等效為電壓控制的平面電容器。根據下式,

        12.JPG

        其中,A為電容器的表面積(cm2);d為空間電荷區的寬度(cm),C為電容(F)。

        所以電容與電壓的大小和載流子的濃度有關,隨著VCE的增大,pn結不斷耗盡,耗盡層越來越寬,相當于寬度d變大,反應到電容上就是呈現逐漸減小的趨勢。

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