- 佳能將于2022年9月5日起發售解決方案平臺“Lithography Plus１”服務（以下簡稱“Lithography Plus”），該系統匯聚佳能在半導體制造領域超過50年的技術積淀，以包括曝光工藝在內的海量半導體制造數據為支持，在提升設備維護運轉率的同時，能夠實現半導體制造工藝的優化。?佳能陸續推出了具有高處理性能的KrF光刻機和支持多種設備的i線光刻機等一系列產品，多年來一直積極地為購置佳能光刻機的客戶提供技術支持。“Lithography Plus”通過綜合運用技術經驗與數據積累，在實
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佳能 半導體光刻機 Lithography Plus
- 電子束光刻系統的知名廠商Vistec Lithography公司近日宣布他們與中國武漢華中科技大學光電工程學院簽署了戰略合作伙伴協議。武漢華中科技大學是大陸國家級重點院校之一，而 Vistec Lithography則是電子束光刻設備的領先廠商，按協議規定，兩家將在納米光刻技術研究和教學領域開展合作。
這次合作的核心是Vistec公司提供給華中科技大學的EBPG5000pES電子束光刻系統，裝備這套系統之后，華中科技大學在教學，科研以及對外合作方面的實力將如虎添翼。華中科技大學稱：“
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Vistec-Lithography 光刻 掩膜
- Maskless Lithography公司今天首次公開推出全新的可提高印制電路板(PCB) 生產門檻的直寫數字成像技術。這種MLI-2027直寫光刻系統首次在業內同時實現高精度、高生產效率和高成品率，並采用標準的“非激光直接成像(Non-LDI)” 抗蝕劑。Maskless公司今天還宣布Sanmina-SCI公司通過在洛杉磯的工廠中對Maskless MLI-2027設備進行測試、驗證和認證后，購買了該公司的首臺產品。
“這臺設備的售出標志著我們五年的研發工
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Maskless-Lithography PCB 光刻系統 MLI-2027
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