佳能發售半導體光刻機解決方案平臺“Lithography Plus”

佳能將于2022年9月5日起發售解決方案平臺“Lithography Plus^１”服務（以下簡稱“Lithography Plus”），該系統匯聚佳能在半導體制造領域超過50年的技術積淀，以包括曝光工藝在內的海量半導體制造數據為支持，在提升設備維護運轉率的同時，能夠實現半導體制造工藝的優化。

 佳能陸續推出了具有高處理性能的KrF光刻機和支持多種設備的i線光刻機等一系列產品，多年來一直積極地為購置佳能光刻機的客戶提供技術支持。“Lithography Plus”通過綜合運用技術經驗與數據積累，在實現高效維護作業的同時，提高了光刻機運轉率，助力生產效率的提升。

1.為半導體光刻機帶來更高效的運營支持

該系統具有光刻機狀態分析、定期維護結果分析和光刻機停止原因分析多種功能。根據這些數據，光刻機操作員可以更輕松地制定部件更換與維護方案，做好光刻機的曝光質量控制。此外，該系統的“控制面板（Dash Board）”功能可實現工廠內多個光刻機數據可視化，進一步提高了操作員維護業務的效率。

2.搭載能夠有效提升半導體光刻機運轉率的功能

通過“異常檢測”功能，可監視光刻機的工作狀態，檢測發生的異常及征兆，防止光刻機停止工作。此外，“自動恢復”功能也有助于故障修復作業。作業無法自動恢復時，可以通過分析設備狀態，提供故障修復手冊，詳細介紹修復方法，來確保故障的順利修復。此外，佳能的專家工程師可以通過遠程客服系統，遠程共享和了解設備狀態，詳細解答操作員提出的問題。

3. 工法（Recipe）²優化功能助力實現高成品率

該系統搭載的“工藝解決方案”功能匯集了佳能迄今為止積累的光刻機優化案例，并對相關工法（Recipe）進行了優化。通過精細對準和線寬控制設置，可提供自動優化后的工法（Recipe），從新型半導體工藝投入初期開始，為實現高成品率³提供支持。此外，該系統還具備與APC⁴等工藝設備的接口，可與生產管理系統聯動運行。

1.產品詳細信息請參閱佳能官網：https://global.canon/ja/product/indtech/semicon/index.html

2.針對不同設備和制造流程的產品制造要求

3.產品合格率

4.Advanced Process Control : 按批次指示最佳處理條件的機構。具有反映上一次加工結果和顯示上一道工藝結果預測值等的功能

〈新產品特征〉

l  “質量把控（Quality Control）”功能可通過分析光刻機的狀態，進行設備質量管理。用戶可以利用該功能實時掌握質量下降的征兆和對準精度，提前對性能進行維護。

l  “數據趨勢監測（Data Trend Monitor）”功能可實現設備傳感器數據和測量數值的可視化，進行經時變化、產品設備依賴性及設備事件相關調查。用戶可以利用該功能輕松地判斷是否做出響應，確定響應方法和時間等。

l  “故障履歷”功能可以顯示設備停止原因排名，通過該功能可實時掌握需要處理的事項。

l  數據可視化“控制面板（Dash Board）”功能可在一個界面上顯示維護作業所需的數據，也可以根據用戶的角色和用途進行定制。

Dash Board示意圖

l  “異常檢測”功能，可根據從半導體光刻機內各種傳感器獲得的信息，監視光刻機狀況，捕捉異常征兆，提前采取措施，防止設備停止工作。用戶可根據檢測結果采取必要的措施。

l  自動恢復功能可在設備停止工作的狀態下，判斷是否可以恢復，如果可以恢復，設備會自動恢復運轉。例如，發生地震等災害時，可使暫停工作的設備恢復到原來的工作狀態。

l  如果需要人工修復支持，該系統會根據設備停止狀態顯示有效的修復步驟實施手冊，為順利修復提供支持。

部件定位手冊

l  佳能的專家工程師能夠實時遠程檢查設備狀態，并提供遠程客戶服務。該系統搭載了從故障預防到故障發生后的處理等不同情形下的修復支持功能，以確保高水準的設備運轉率。

遠程客戶服務示意圖

l  通過對應用于不同產品器件、不同工藝的產品制造工法（Recipe）進行自動優化，能有助于縮短從產品啟動制造到穩定量產的周轉時間（TAT⁵）。該系統搭載的“工藝解決方案”功能，可通過精細對準和線寬控制設置，自動提供相關優化工法（Recipe），從新型半導體制造投入初期開始，為實現高成品率提供支持。未來，佳能將繼續提供技術支持服務，以幫助客戶解決各種問題。

5. 周轉時間。指從試制產品投入到穩定量產所需的時間。

l  具備與APC（Advanced Process Control）等工藝設備的接口，可與生產管理系統聯動運行。