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        Maskless Lithography推出用于大批量PCB生產的直寫光刻設備

        作者: 時間:2010-04-08 來源:電子產品世界 收藏

          Maskless Lithography公司今天首次公開推出全新的可提高印制電路板() 生產門檻的直寫數字成像技術。這種直寫首次在業內同時實現高精度、高生產效率和高成品率,並采用標準的“非激光直接成像(Non-LDI)” 抗蝕劑。Maskless公司今天還宣布Sanmina-SCI公司通過在洛杉磯的工廠中對Maskless 設備進行測試、驗證和認證后,購買了該公司的首臺產品。

        本文引用地址:http://www.104case.com/article/107748.htm

          “這臺設備的售出標志著我們五年的研發工作已經開花結果,” Maskless Lithography公司的創立者兼CTO Dan Meisburger博士表示,“2005年,憑借我們合作創始人在光刻和測試領域的豐富經驗,我們發現我們可開發出一種能為市場提供巨大價值的。我們相信現在我們已經超越了最初的構想,已做好分享這種已通過試驗和測試的產品的準備。”

          是一種高效率、高產出的生產系統,它通過提供一種更加節約成本的光刻技術來提高PCB產商的盈利能力。這種光刻技術與市場上的其它產品相比,具有更高的成品率和投資回報率。基于已注冊專利的灰度級成像™(GLI)技術,這種MLI-2027產品在傳統的干膜抗蝕劑(dry film resists)上具有超高印刷速度,同時還能進行畸變校正。

          “我們對Maskless推出的這種獨特的直寫光刻設備印象深刻,” Sanmina-SCI公司的運營副總裁Mike Keri表示,“MLI-2027讓我們能夠采用傳統的產品在傳統的干膜抗蝕劑(dry film resists)來實現具有高挑戰性的設計,同時擁有高成品率和高生產效率。”



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