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        45納米 文章 最新資訊

        英特爾停產部分芯片 向45納米技術轉移

        •    中國臺灣筆記本制造商提供的消息稱,計算機微處理器制造商英特爾最近向筆記本廠商發布通知透露,公司將逐步淘汰迅馳(Centrino)筆記本平臺(Napa和Napa Refresh)中老時的處理器。  通知稱,英特爾計劃明年1月份發布一個產品中止通知,在通知中將包括它的 Napa Refresh 筆記本平臺中的T7600、T7400、T7200、T5600和T5500微處理器,公司計劃明年3月份將停止接受這些芯片的訂單。&nb
        • 關鍵字: 嵌入式系統  單片機  英特爾  芯片  45納米  

        基辛格暢談英特爾與快速發展的行業高科技

        • 英特爾公司高級副總裁兼數字企業事業部總經理帕特•基辛格,在英特爾信息技術峰會上介紹了英特爾與整個行業合作在處理器、相關技術以及Tick-tock設計步伐方面的最新情況,包括英特爾即將推出的 45 納米產品的最新信息。同時他還介紹了行業內近期在節能計算、虛擬化以及大量軟件開發方面的一些舉措和近期推出的一些新的系統架構計劃,從USB互聯技術到公司即將推出的用于英特爾®博銳™技術臺式機的無鉛產品。 基辛格指出:“英特爾的發展模式和設計步伐是一種前瞻性的、經濟高
        • 關鍵字: 嵌入式系統  單片機  英特爾  45納米  處理器  MCU和嵌入式微處理器  

        45納米后,摩爾定律還能堅持多久?

        • 自1970年發明MOS工藝及73年推出CMOS工藝以來,至今還沒有發現可替代它的工藝,足見CMOS工藝的經濟合理性。因此,至今硅基材料的應用仍在繼續延伸。然而,在晶體管工藝制造中采用二氧化硅作為柵極材料,實質上已逼近極限。如65納米工藝時,二氧化硅柵極的厚度己降低至1.2納米,約5個硅原子層厚度,如果再繼續縮小,將導致漏電及功耗急劇上升。 晶體管工藝技術的又一個里程碑Intel共同創始人Gordon Moore說,采用“high-k”和金屬柵電極材料,標志著從推出多晶硅柵MOS晶體管以來,晶體管技術的一
        • 關鍵字: 消費電子  0708_A  雜志_市場縱橫  45納米  摩爾定律  消費電子  

        45納米芯片大戰結局: 松下IBM或擊敗英特爾

        • 關注芯片領域四核之戰的朋友可能不會陌生,英特爾不斷以45納米芯片重磅新聞轟炸AMD,宣稱自己的45納米芯片將第一個上市。然而現實可能出乎業界的預料,第一個將45納米芯片搬上貨架的可能既不是英特爾,也不是AMD,而是松下或IBM。   據國外媒體報道,以45納米競賽“王者”自居的英特爾,可能對上述說法不以為然,它會說英特爾已在內部演示了45納米芯片,代號為“Penryn”,根據計劃今年底該芯片將上市,而AMD的45納米芯片可能要到2008年才能上市。然而業界所關注的并非產品演示,就真正供
        • 關鍵字: 嵌入式系統  單片機  45納米  芯片  嵌入式  

        臺積電將為AMD代工制造45納米工藝芯片

        •  臺積電CEO蔡力行(Rick Tsai)向分析人士表示,臺積電將在2008年為尚未公布名字的客戶制造處理器。   他說,我們預計將于明年下半年開始制造處理器,這一交易將對臺積電的收入做出重大貢獻。   蔡力行沒有披露更多細節,但表示,為了為該客戶制造處理器,臺積電正在投入巨資部署高阻抗金屬柵極技術。高阻抗金屬柵極技術是45納米工藝的關鍵部分,它能夠大幅度減少電流泄露。   臺積電已經在為威盛制造處理器,但威盛的處理器采用的是較為陳舊的工藝,在近期內不大可能要求使用高阻抗金屬柵極技術。這就使得A
        • 關鍵字: 消費電子  臺積電  AMD  45納米  

        應用材料推出45納米光掩膜刻蝕技術設備

        • 近日,應用材料公司宣布推出先進的AppliedCenturaTetraTMIII掩膜刻蝕設備,它是目前唯一可以提供45納米光掩膜刻蝕所需要的至關重要的納米制造技術系統。TetraIII通過控制石英掩膜把刻槽深度控制在10Å以內,同時把臨界尺寸損失減小到10nm以下,使客戶可以在最重要的器件層交替使用相移掩膜和強有力的光學臨近修正技術。該系統為基于鉻、石英、氮氧硅鉬等多種新材料的下一代光刻技術應用提供無差錯、高產能的刻蝕工藝。      
        • 關鍵字: 45納米  消費電子  應用材料  消費電子  

        應用材料公司推出關鍵性45納米光掩膜刻蝕技術設備

        •   近日,應用材料公司宣布推出先進的Applied Centura® TetraTMIII掩膜刻蝕設備,它是目前唯一可以提供45納米光掩膜刻蝕所需要的至關重要的納米制造技術系統。Tetra III通過控制石英掩膜把刻槽深度控制在10 Å以內,同時把臨界尺寸損失減小到10nm以下,使客戶可以在最重要的器件層交替使用相移掩膜和強有力的光學臨近修正技術。該系統為基于鉻、石英、氮氧硅鉬等多種新材料的下一代光刻技術應用提供無差錯、高產能的刻蝕工藝。   應用材料公司資深副總裁,刻蝕、清潔、前道
        • 關鍵字: 45納米  光掩膜刻蝕  應用材料公司  

        臺積電9月量產45納米產品 率臺灣代工廠之先

        •   4月10日消息,據臺灣媒體報道,全球最大晶圓代工廠臺積電周一表示,將于今年9月開始量產45納米產品,成為臺灣首家邁入45納米量產的晶圓廠。   臺積電總經理兼總執行長蔡力行表示:“為因應客戶未來的需求,公司迅速建構完成了45納米設計生態環境,并結集完備的設計支援服務,協助客戶將來能快速導入45納米產品。”   目前,全球消費電子產業均朝更為精巧且高效能設計發展,臺積電為提高產業競爭力,也一路由90納米、65納米至最新的45納米先進工藝邁進。
        • 關鍵字: 45納米  代工  臺積電  

        英特爾今年建成三家45納米多核廠

        •   英特爾數字企業集團副總裁兼服務器平臺事業部總經理Kirk Skaugem稱,英特爾三家45納米的工廠將在今年完工,這將有助于英特爾擴大多核處理器產能和降低產品價格。   據介紹,這三家工廠分別位于以色列,美國俄勒岡州和美國亞利桑那州。Kirk Skaugem對它們的即將建成充滿期待,認為它必將鞏固英特爾在多核處理器領域的競爭。   “對手要挑戰我們在微架構的領先地位是非常困難的,所有優勢的獲得都要投入數十億美元的資金。要搞多核競爭就要有產能,有產能才有價格優勢,也就要有大的工廠,英特爾在這方面非常
        • 關鍵字: 45納米  多核  英特爾  

        英特爾展示45納米處理器 下半年上市銷售

        •     據國外媒體報道,英特爾公司已開始生產全球第一個45納米工藝處理器,英特爾公司計劃在今年下半年開始銷售新處理器。      在英特爾硅谷總部的演示會上,公司展示了“Penryn”處理器的開發型號。英特爾演示了一個低電壓版的雙內核筆記本處理器,還有雙內核和四內核版的臺式機和服務器處理器。英特爾還將開發10種45納米型號。     芯片制造商宣稱,Penryn是40年來半導體
        • 關鍵字: 45納米  處理器  英特爾  

        英特爾展示45納米處理器 下半年上市銷售

        • 據國外媒體報道,英特爾公司已開始生產全球第一個45納米工藝處理器,英特爾公司計劃在今年下半年開始銷售新處理器。      在英特爾硅谷總部的演示會上,公司展示了“Penryn”處理器的開發型號。英特爾演示了一個低電壓版的雙內核筆記本處理器,還有雙內核和四內核版的臺式機和服務器處理器。英特爾還將開發10種45納米型號。     芯片制造商宣稱,Penryn是40年來半導體芯片的最偉大突破,因為它可以讓英特爾繼續使用當前
        • 關鍵字: 45納米  處理器  英特爾  
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        45納米介紹

        1906年,世界第一枚電子器件劃時代而生。此后百年間,隨著晶體管與集成電路的成功開發,人類開始步入速度驚人的芯片時代。   我們知道,能夠帶來突破性性能與尺寸的新體系結構,需要在更小的體積內放入更多的晶體管數目,需要更高級的芯片制程工藝。   從第一顆處理器到90納米處理器,乃至65納米處理器都是如此。英特爾把這種以兩年為周期的芯片與微體系結構快速發展步調稱為“Tick-tock”戰略。當硅 [ 查看詳細 ]

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