半導體工藝 文章 最新資訊
晶諾微亮相慕尼黑光博會，為半導體工藝提供國產先進量檢測設備
- 在與Semicon China同期舉辦的2024慕尼黑上海光博會上，晶諾微（上海）科技有限公司（以下簡稱晶諾微）首度現(xiàn)身行業(yè)展會，將公司自主研發(fā)的光學量測設備和半導體量檢測設備展示給專業(yè)參會者，且在現(xiàn)場展開深入地互動交流。伴隨半導體市場的持續(xù)擴增以及國產化進程的不斷加快，半導體量檢測設備行業(yè)展現(xiàn)出蓬勃發(fā)展的良好態(tài)勢。于技術層面而言，半導體量檢測設備不斷實現(xiàn)技術突破與創(chuàng)新，高精度、高速度、高穩(wěn)定性成為當下乃至未來量檢測設備的關鍵特點，在線、自動化、非接觸式、納米級測量乃是主要方向，其不僅提高了半導體制造的精
- 關鍵字： 晶諾微 慕尼黑光博會 半導體工藝 半導體量檢測設備
半導體工藝的極限：1nm之戰(zhàn)
- 從 7nm 到 5nm，從 5nm 到 3nm，半導體產業(yè)對于先進工藝制程的追求永不停歇。2022 年，當臺積電宣布已經掌握成功大量量產 3nm 鰭式場效電晶體制程技術后，1nm 開始一步步逼近。對于先進工藝的掌握，意味著更高的性能、更頂尖的技術。從 3nm 跨越到 1nm，這其中面臨的技術挑戰(zhàn)猶如天塹。因此，1nm 對于業(yè)界來說也充滿著誘惑。1nm，念念不忘工藝制成的研發(fā)和生產需要大量的資源，一方面是技術積累，如晶體管架構、材料選擇、制造過程等方面都需要解決難題；另一方面還需要強大的資金、人才和設備，眾
- 關鍵字： 半導體工藝
14nm是全球半導體工藝的一個“坎”？
- 尺寸縮小是推動產業(yè)進步的“靈舟妙藥”，每兩年尺寸縮小70%的魔咒至此沒有延緩的跡象，2011年是22nm工藝，到2013年工藝應該到14nm。眾所周知，尺寸縮小僅是一種手段，如果缺乏尺寸縮小而帶來的紅利，業(yè)界不會盲目跟進。依目前的態(tài)勢，業(yè)界已然有所爭議，有人認為由28nm向22nm過渡時成本可能反而上升，這或是產業(yè)過渡過程中的正常現(xiàn)象。 全球半導體業(yè)中還能繼續(xù)跟蹤14nm工藝節(jié)點者可能尚余不到10家，包括英特爾、三星、臺積電、格羅方得、聯(lián)電、東芝、海力士、美光等。顯然在半
- 關鍵字： 14nm 半導體工藝
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半導體工藝介紹
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