ITO靶材向大尺寸高密度方向發展

　　ITO靶材是LCD產業鏈的重要一環，是基本的配套材料。近年來隨著平面顯示器行業的蓬勃發展，對ITO靶材的需求也大大增長。

　　ITO靶材供應以日本為主

　　ITO材料是一種n型半導體材料，該種材料包括ITO粉末、靶材、導電漿料及ITO透明導電薄膜。其主要應用分為：平板顯示器(FPD)產業，如液晶顯示器(LCD)、薄膜晶體管顯示器(TFT-LCD)、電激發光顯示器(EL)、場發射顯示器(FED)、電致有機發光平面顯示器(OELD)、等離子顯示器(PDP)等;光伏產業，如薄膜太陽能電池;功能性玻璃，如紅外線反射玻璃、抗紫外線玻璃如幕墻玻璃、飛機、汽車上的防霧擋風玻璃、光罩和玻璃型磁盤等三大領域。

　　2008年全球ITO靶材年需求量1500噸左右，價格1000美元/公斤左右，市場總量15億美元左右。

　　目前國內ITO靶材需求量約150噸。隨著中國經濟的發展和全球產業分工的深化，日本、我國臺灣地區、韓國的許多平板顯示器制造企業都將他們的制造基地移到中國大陸，未來中國大陸將成為全球最大的液晶顯示器制造中心。預計2010國內ITO靶材需求量將超過500噸。

　　ITO靶材的供應，主要的供應商以日本為主，其中日本能源、日本三井礦業公司、日本東曹3家廠商囊括了80%以上的ITO市場。

　　國內主要生產廠家有山東威海藍狐特種材料開發有限公司、株洲冶煉集團、柳州華錫集團有限責任公司、中色(寧夏)東方集團公司等。國內由于ITO靶材生產工藝的局限性，靶材產品尺寸小，品質不高，產品大多只能用于中、低端市場，國內高端顯示器用靶材全部依賴進口。

　　ITO靶材3種生產工藝各具特色

　　ITO靶材的生產工藝可以分為3種：熱等靜壓法(HIP)、熱壓法(HP)和氣氛燒結法。各種生產工藝及其特點簡介如下。

　　熱等靜壓法

　　ITO靶材的熱等靜壓制作過程是將粉末或預先成形的胚體，在800℃～1400℃及1000kgf/cm 2～2000kgf/cm 2的壓力下等方加壓燒結。熱等靜壓工藝制造產品密度高、物理機械性能好，但設備投入高，生產成本高，產品的缺氧率高。

　　熱壓法

　　ITO靶材的熱壓制作過程是在石墨或氧化鋁制的模具內充填入適當粉末以后，以 100kgf/cm 2～1000kgf/cm 2的壓力單軸向加壓，同時以1000℃～1600℃進行燒結。