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        利用HFTA-16.0建立雙極型集成電路的ESD保護

        作者: 時間:2013-11-28 來源:網(wǎng)絡 收藏
        text-indent: 2em; line-height: 24px; color: rgb(62, 62, 62); font-family: Tahoma, Arial, sans-serif; font-size: 14px; text-align: justify; ">電源去耦電容會影響箝位操作,傳遞到去耦電容的電荷會產(chǎn)生高于IC絕對最大值的電壓,但還不足以使箝位電路導通。這時的電容相當于一個能源,迅速向器件注入能量。

        本文引用地址:http://www.104case.com/article/227764.htm

        利用HFTA-16.0建立雙極型集成電路的ESD保護

        圖6. 能量和電壓與電源耦合電容的關(guān)系

        被保護引腳電容上的能量如圖6所示,對小的去耦電容,箝位二極管通過進入突變穩(wěn)定模式限制電壓(V1)。突變穩(wěn)定后的電壓所產(chǎn)生的能量近似地隨著電容的增大而成比例增大。電源去耦電容增大到一定程度后,電荷傳輸不會產(chǎn)生導致箝位電路擊穿的電壓。

        箝位電壓高于IC所能承受的電壓(典型值6V),低于二極管的擊穿電壓(約10V)時,對于存在去耦電容的情況,因為電容儲能可能導致某些問題。如果IC在沒有外部電路的情況下進行測試,引腳上作用10V電壓是可以接受的,對器件不會構(gòu)成威脅。

        改善

        合理選擇去耦電容的大小有助于在電路中提高IC的保護,降低電容儲能,使ESD電荷不會產(chǎn)生擊穿箝位電路的電壓。

        對于小尺寸高速雙極型IC,HBM測試中吸收的最大能量是1μJ;2kV人體模式下,如果電容小于0.02μF (圖6), 箝位二極管會產(chǎn)生動作。為了使去耦電容的能量低于1μJ,去耦電容有兩種選擇:要么容值大于0.05μF,要么小于0.005μF。當使用更高的測試電壓時,要按比例增大0.05μF電容的尺寸。

        結(jié)論

        IC及其周邊元件需要承受突破應用電路鏡電防護層的ESD能量,電源的去耦電容可能是降低作用到IC上的ESD強度的一條低成本解決途徑,諸多設計因素會影響ESD性能,具體可以歸納為:

        1.確定應用場合的測試電壓(VESD),典型值為2kV的HBM或100V MM模式。

        2.檢查IC的可靠性報告,確認二極管、鉗位二極管和傳導路徑適合的測試電壓。Maxim的可靠性報告中提供了IC的相關(guān)信息。

        3.當使用外部電容,如電源濾波電容(C1)時,需檢查其產(chǎn)生的電壓,這個電壓最終作用到IC上。

        4.如果出現(xiàn)ESD沖擊時,電壓介于IC的最大額定電壓(典型值為6V)與擊穿電壓(典型值在8V至10V),可以考慮使用較大尺寸的電容來替代電源濾波的方案。


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