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        羅姆為英偉達800V HVDC架構提供高性能電源解決方案

        作者: 時間:2025-06-23 來源:EEPW 收藏


        本文引用地址:http://www.104case.com/article/202506/471567.htm

        隨著人工智能持續(xù)重新定義計算的邊界,為這些進步提供動力的基礎設施也必須同步發(fā)展。作為功率半導體技術領域公認的領導者,很榮幸成為支持英偉達全新800V高壓直流(HVDC)架構的主要硅供應商之一。這標志著數(shù)據(jù)中心設計的關鍵轉變,使兆瓦級人工智能工廠變得更加高效、可擴展和可持續(xù)。

        不僅提供硅(Si)功率元器件,還擁有包括碳化硅(SiC)和氮化鎵(GaN)等寬禁帶半導體在內的豐富產品陣容,可為數(shù)據(jù)中心的設計提供更優(yōu)解決方案。

        得益于極高的成本效益和可靠性,Si MOSFET已被廣泛應用于汽車和工業(yè)設備市場的電力轉換。Si MOSFET憑借其在價格、效率和可靠性之間的良好平衡也適用于當前AI基礎設施的升級。

        的Si MOSFET代表產品“RY7P250BM”被全球云平臺企業(yè)認證為推薦器件。該產品作為一款為AI服務器必備的熱插拔電路專門設計的48V電源系統(tǒng)用100V功率MOSFET,以8080的小型封裝實現(xiàn)業(yè)界超寬的SOA(安全工作區(qū)),并實現(xiàn)僅1.86mΩ的超低導通電阻。在要求高密度和高可用性的云平臺中,有助于降低電力損耗并提升系統(tǒng)的可靠性。

        SiC元器件的優(yōu)勢在于可降低工業(yè)等領域中高電壓、大電流應用的損耗。英偉達800V HVDC架構旨在為功率超過1MW的服務器機架供電,這對于推進其大規(guī)模部署計劃也起著至關重要的作用。這一新型基礎設施的核心在于可將電網(wǎng)的13.8kV交流電直接轉換為800V的直流電。而傳統(tǒng)的54V機架電源系統(tǒng)除了受物理空間限制(要滿足小型化需求)外,還存在銅材使用量大、電力轉換損耗高等問題。

        羅姆的SiC MOSFET在高電壓、大功率環(huán)境下可發(fā)揮出卓越性能,不僅能通過降低開關損耗和導通損耗來提高效率,還以超小體積實現(xiàn)了滿足高密度系統(tǒng)設計要求的高可靠性。這些特性恰好與英偉達800V HVDC架構所追求“減少銅材使用量”、“將能量損耗最小化”以及“簡化數(shù)據(jù)中心整體的電力轉換”等需求相契合。

        另外,作為對SiC產品的補充,羅姆同時還積極推進GaN技術研發(fā),現(xiàn)已推出EcoGaN?系列產品,包括150V和650V耐壓的GaN HEMT、柵極驅動器以及集成了這些器件的Power Stage IC。SiC在高電壓、大電流應用中表現(xiàn)出色,而GaN則在100V~650V電壓范圍內性能優(yōu)異,具有出色的介電擊穿強度、低導通電阻以及超高速開關特性。此外,在羅姆自有的Nano Pulse Control?技術的加持下,其開關性能得到進一步提升,脈沖寬度可縮短至最低2ns。這些產品充分滿足AI數(shù)據(jù)中心追求小型化和高效率電源系統(tǒng)的需求。

        除功率器件外,羅姆還推出搭載第4代SiC芯片的頂部散熱型HSDIP20等高輸出功率SiC模塊產品。這些1200V SiC模塊已面向LLC方式的AC-DC轉換器和一次DC-DC轉換器進行了優(yōu)化,可實現(xiàn)高效率、高密度的電力轉換。憑借其卓越的散熱性與可擴展性,成為英偉達架構所預想的800V輸配電系統(tǒng)等兆瓦級以上AI工廠的上佳之選。

        800V HVDC基礎設施的實現(xiàn),需要全行業(yè)的協(xié)同合作。羅姆作為實現(xiàn)下一代AI工廠的重要合作伙伴,不僅與英偉達等業(yè)界領導者保持緊密協(xié)作,還將與數(shù)據(jù)中心運營商及電源制造商開展深度合作。通過提供羅姆尤為擅長的SiC和GaN等寬禁帶半導體的先進技術,為構建可持續(xù)且高能效的數(shù)字化社會貢獻力量。



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