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        佳能發售用于生產車載大型特殊顯示器及智能手機顯示器的FPD新曝光設備

        —— 更大的曝光幅度 更強的生產性能
        作者: 時間:2024-05-27 來源:EEPW 收藏

        將在2024年6月上旬發售支持使用第6代玻璃基板※1(Flat Panel Display)曝光裝置新產品MPAsp-E1003H。其擁有更大的曝光幅度,生產能力將進一步提升。

        本文引用地址:http://www.104case.com/article/202405/459247.htm

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        MPAsp-E1003H

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        車載橫向大型特殊(示意圖)

        近年來,隨著自動駕駛技術的發展和電動汽車市場的擴大,對于各式各樣的車載的需求量越來越高。市場對于車載和智能手機的,要求更輕薄、輕量,高精度,同時面板制造中不僅要確保品質,而且追求更高的生產效率。新品“MPAsp-E1003H”依托曝光幅度的擴大技術以及各種新技術的應用,在取得更好的套刻精度的同時還能大幅提升生產效率。

        支持使用第6代玻璃基板的最大※2的曝光幅度,生產性能提升

        新產品采用了投影光學系統,可實現1.5μm※3(L/S※4)的高分辨率,且一次曝光幅度擴大約1.2倍※5。該投影光學系統曾用于“MPAsp-H1003H”(2022年7月發售),可用于生產使用第8代玻璃基板※6一次性曝光、用于大型電視等的65英寸面板。在一塊玻璃基板上,如果生產智能手機面板等產品,此前需要6shot曝光,而新產品僅需4shot曝光,生產性能大幅提升。此外,在生產車載橫向大型特殊顯示器時,也可以做到無接縫2shot曝光。且,玻璃基板搭載臺的驅動速度提升約60%,tact time提升約14%※7,有效提升了量產效率。

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        曝光幅度約擴大1.2倍

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        【玻璃基板搭載臺】

        重量相當于一輛中型卡車。為了高效率生產制造高清顯示器,需要精確且高速地移動。

        第8代玻璃基板上采用的投影光學系統的圖片

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        智能手機用顯示器的shot 布局示例;大型特殊顯示器的shot 布局示例

        根據用途可進行4 shot或者2 shot曝光

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        定位測量,REI模塊搭載位置

        新開發的非線性補正模塊,實現高套刻精度

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        通過REI 模塊對投影的圖案進行均等補正

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        定位測量示意圖

        新產品除了采用和支持第6代玻璃基板的“MPAsp-E813H”(2014年9月發售)一樣的每塊面板多點同時測量的對位方式,此方式既保證了生產效率也實現了高精度曝光。同時,新產品還搭載了新開發的非線性補正REI(Real-Time Equalizing distorted Image)模塊。搭載REI 模塊后,即使曝光幅度擴大也實現了±0.30μm高套刻精度。

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        以往的技術+REI 以往的技術

        使用REI Unit后的曝光圖案(示意圖)


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        照明模式切換設備和曝光示意圖

        強化制造工藝

        新產品沿用了曾經搭載在“MPAsp-H1003H”上實現了超分辨率技術的照明模式切換機構,可根據需要曝光圖案的種類進行照明模式切換,從而適配各類制造工序的曝光。

        新產品在形成圓弧光的機構中,配備曝光狹縫自動調整機構(SIC:Slit Illuminance Control)。通過自動控制光線通過的狹縫寬度,可以改變曝光光線的強度分布,從而實現穩定的曝光線寬。

        同時,新產品還采用了可配合曝光布局自由選擇玻璃基板縱橫方向的universe chuck,首次實現可應對車載顯示器多樣化布局需求。

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        曝光狹縫自動調整機構

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        自動控制光通過狹縫的幅度實現穩定的曝光線寬

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        橫向縱向皆可固定玻璃基板的universe chuck

        新產品MPAsp-E1003H通過強化上述制造工序的工藝應對能力,制造質量更加穩定。

        ※   1、1,500×1,850mm尺寸的玻璃基板,用于制造以智能手機為主的中小型顯示器面板。

        ※   2、生產的支持使用第6代玻璃基板的。

        ※   3、1微米是1米的百萬分之一(=千分之一毫米)。

        ※   4、Line and Space的縮寫。Line和Space等距排列的圖案。

        ※   5、和「MPAsp-E813H」比較。

        ※   6、2,200×2,500mm尺寸的玻璃基板,現在主要用于制造電視顯示器面板。

        ※   7、和「MPA-E813H」比較。

        ※   8、σ(sigma)為照明系的NA(開口數)和投影系的NA的比。

        ※   9、Contact Hole縮寫。為了形成布線而貫穿多層的圓形圖案。

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        內部(參考圖)

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        的FPD的工作機制

        佳能的FPD曝光設備采用鏡面投影方式。鏡面投影方式由大凹面鏡,小凹面鏡和梯形鏡組成。通過將光照射在單元上方的光掩模上,光掩模上的電路圖案就可以在經過5次反射后準確地轉印在玻璃基板上。約1μm(1mm的千分之一)的精細電路圖案轉印到大型玻璃基板上時,凹面鏡特別關鍵。佳能具有較強的光學技術和生產技術,因而能夠研發生產直徑約1.5米的大型凹面鏡。

        佳能的曝光方式在光學上具有完全對稱的結構,優點是在原理上不會產生因斜射光引起的彗形像差(滲光),也不會因使用鏡頭的折射光學系統引起光的波長差異進而導致的色差(色偏)。在圓弧形的范圍內能夠得到優良的成像特性,通過掃描該圓弧形的曝光區域即可實現大面積高分辨率性能。



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