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        基于ARM的擴散/氧化控制系統的設計

        作者: 時間:2010-11-15 來源:網絡 收藏

          在本系統中使用晶閘管控制的電阻絲給擴散/氧化爐加溫,為了防止市電對系統的影響,必須使用光電隔離器隔離本系統與市電的連接。


        圖2 ILC7135 轉換原理圖

          2.3 氣路系統和推拉舟系統的硬件設計

          在擴散/氧化工藝中,根據工藝的不同需要通入4種不同種類和質量的氣體。所以在氣路控制系統中,需要4路開關量控制4種不同氣體的通斷,以及4路模擬量控制氣體質量流量計。質量流量計能夠輸出4 mA~20 mA或0~5 V的氣體質量信號,在控制精度要求不高的系統中,可以不理會質量流量計輸出的氣體質量信號,為了保證控制精度,可以采集氣體質量信號。

          在4路開關量控制中,可以使用繼電器控制通斷。

          在4路模擬量控制氣體質量流量計中,需要4路D/A轉換。根據控制精度的要求,選用12位的D/A芯片DAC1230,因為控制信號為電壓信號,所以需要把電流信號轉換成電壓信號。圖3即為氣路控制系統D/A轉換原理圖。


        圖3 氣路控制系統D/A轉換原理圖

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