寬帶深紫外光明場系統縮短學習周期

加利福尼亞州圣荷塞，2006 年 6 月 13 日訊 — KLA-Tencor （NASDAQ： KLAC）今天宣布，由 Freescale Semiconductor、STMicroelectronics 和 Philips Semiconductors 三家半導體生產商組成的 300 毫米生產和研發協作約聯盟 Crolles2 Alliance 已采用新型 2800 寬帶 DUV 明場系統，這是對 KLA-Tencor 擁有的獨特檢測能力的認可。  Crolles2 在其 65 納米研發和 90 納米生產合作中采用 2800，可檢測到影響成品率的關鍵性缺陷，而采用上一代的檢測工具是無法做到這一點的。 

“我們對 Crolles2 Alliance 和 KLA-Tencor 之間的成功合作感到非常滿意。  “通過在開發期間及早地采用此工具，我們已將缺陷學習周期縮短達 6 個月，同時，我們每個月都能在 90 納米和 65 納米技術中不斷發現該工具的獨特應用?！盋rolles2 Alliance 的代工廠廠長主管 Joel Hartmann 指出，  “鑒于我們與 KLA-Tencor 之間的成功合作關系，并且為了滿足代工廠的良成品率成熟要求，我們決定另外再安裝 2800 檢測系統?！?

作為市場上唯一的寬帶 DUV/UV/可見光圖形晶片檢測工具，2800 可在所有工藝層上廣泛地捕獲所有類型的缺陷。  2800 延續了 23xx 系列 UV/可見光明場平臺的成功，能無縫地集成到研發線和生產代工廠中。  自 2005 年 7 月推出以來，2800 已在全球領先的邏輯器件、存儲器件及代工工廠中陸續安裝使用，其中在部分代工廠中安裝了多部套產品。

KLA-Tencor 公司簡介：KLA-Tencor 是全球領先的為半導體制造和相關行業提供產出管理以及工藝控制解決方案的供應商。公司總部設在美國加利福尼亞州圣何塞，在世界各地設有銷售和服務機構。作為 S&P 500 強企業之一，KLA-Tencor 公司在Nasdaq 上市交易，交易代碼 KLAC。  欲了解該公司更多信息，請訪問： http://www.kla-tencor.com。