Cadence采用最新數字端到端流程推動28納米的千兆門/千兆赫設計
全球電子設計創新領先企業Cadence設計系統公司,宣布推出28納米的可靠數字端到端流程,推動千兆門/千兆赫系統級芯片(SoC)設計,在性能與上市時間方面都有著明顯的優勢。在Cadence的硅實現方法的驅動下,在統一化設計、實現與驗證流程中,通過技術集成和對核心架構與算法大幅改進,基于Encounter的全新流程提供了更快、更具決定性的途徑實現千兆門/千兆赫硅片。通過與Cadence的模擬/混合信號與硅/封裝協同設計領域的無縫綜合,新的數字28納米流程讓設計師能夠全局考慮整個芯片流程,在高性能、低功耗、混合信號甚至面向移動與多媒體SoC的3D-IC設計關鍵成功因素方面實現重大突破。
本文引用地址:http://www.104case.com/article/116692.htm即將上市的這種新流程支持Cadence的硅實現方法,專注于獨一無二且普遍深入的設計意圖、提取與從RTL到GDSII,然后到封裝。硅實現是EDA360構想的一個關鍵組成部分。
“28納米工藝技術對設計人員來說既是重大的機遇也是嚴峻的挑戰,在功率、性能以及尺寸方面都具有優勢,但是也面臨工藝變化和新制造效應的挑戰,”創意電子公司設計與開發部門主管Albert Li說,“我們采用了Cadence的數字端對端流程用于我們首個28納米設計,因為Cadence公司的提供的千兆門級/千兆赫設計能力和先進工藝節點技術正是我們公司為客戶提供服務所需要的。使用Cadence的數字端對端流程,我們公司不僅能夠處理28納米設計的復雜布局布線、多變性以及制造要求,還能夠在合理的設計周期時間內應對100+百萬門級的設計。最終可以提高我們公司的生產力并能幫助我們更好地預測服務的交付進度。”
這種新流程使高級工藝節點不用再為復雜性而妥協,可以優化28納米的復雜設計,為高級SoC開發提供一個途徑,使其能實現在更小工藝尺寸下的成本優勢。流程功能的關鍵是統一基于意圖、提取和聚合的數字設計、實現與驗證。
提升統一意圖的功能包括:
• 完整、可靠的28納米設計規則意圖(電學、物理、DFM)和早期的提前權衡分析,通過智能導孔與引腳密度優化,提供運行時間方面的兩倍提升。
• 早期時鐘拓撲意圖捕捉和規劃使用物理信息智能優化時鐘門控,并在設計的合成過程中平衡時鐘樹。
提高提取的功能包括:
• 突破性的數據提取技術能夠讓整個邏輯模塊被簡單而精確地建模,并在邏輯與物理方面進行優化,提高千兆門級的可升級性與設計效率。
• 支持分層低功耗和基于OpenAccess混合信號的快速/細節提取,以保證IP和高級SoC快速集成。
更快的設計收斂通過如下功能實現:
• 注重物理考量的pre-mask ECO使困難的功能性ECO操作自動化,使設計收斂速度大大加快,并顯著地縮短了設計周期。
• 突破性的設計內高級分析架構,提供超快、一步式信號完整性與設計流程中的時序分析收斂,實現高效設計收斂。
• 精確的全混合信號靜態時序分析與時序驅動式優化,減少模擬與數字設計團隊之間的反復工作。
• 全新、帶有統一意圖、提取和收斂、全面集成的3D-IC/功能,跨越數字、全定制與封裝設計,如今可實現優化的性能、尺寸、成本與功率。
“28納米設計的復雜性以及對復雜千兆門/千兆赫設計的支持需要,都要求一種綜合的端到端流程,”Silicon Realization產品市場部高級經理David Desharnais說。“我們獨一無二的硅實現方法讓我們的客戶推進其SoC設計到新的層次,從而為新一代的多媒體、通信與計算應用提供功能最強的芯片。今天我們公布的28納米全面數字硅實現流程是朝著EDA360構想的實現又邁出了一大步。”
基于Encounter的硅實現數字端到端流程所包含的技術有;Encounter RTL Compiler Encounter Digital Implementation System, Encounter Conformal 技術、, Encounter Test、 Encounter Timing System、 Cadence QRC Extraction, Encounter Power System 和 Encounter DFM技術。
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