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        IC設計業做強內功是關鍵

        —— 雖有進步,仍需不斷提高
        作者: 時間:2010-12-05 來源:中國IC網 收藏

          如今產業鏈的合作模式正向虛擬一體化模式演進,代工廠也在通過一些資本的力量,基于上下游的共同價值,在逐漸形成超IDM的IDM。比較典型的是臺積電,他們投資創意微電子,與封裝廠進行資本結合,從一開始就可幫助企業從設計到制造再到測試直至最后的封裝,這是將來的發展方向。最近中芯國際也宣布將投資一家上海ASIC(專用集成電路)設計以及Turnkey(交鑰匙)服務公司燦芯半導體,以加強設計支持力量,這也對產業鏈有好處。只有強強聯合,優勢互補,才能抱團取暖。

        本文引用地址:http://www.104case.com/article/115198.htm

          內功不足仍是主要問題

          未來5年,業面臨的問題依然是做大做強。我們目前還不夠大,總體收入不及高通一個公司的年收入,而做強必然是大到一定程度上才能實現的。做大是外延的擴張,做強是內涵的增長。

          中國業的問題主要還是內功不足,大量依靠外部資源如設計服務企業、EDA(電子設計自動化)供應商以及工藝技術的進步。這在企業起步階段是可以的,但發展到一定程度之后,如果自身能力仍不提高,這是行不通的。比如國內有一企業用65nm技術開發的產品不如另一家企業130nm技術開發的產品。這提醒我們,資源是輔助性的,自身能力的提升才是最主要的。

          跟工藝結合也是IC設計企業繞不開的課題,我們對工藝了解得太少,如今工藝向40nm、32nm邁進,芯片的設計將更加復雜,工藝、設計的結合將變得十分重要,需要IC設計企業重視與工藝的結合。國外企業很少依賴標準單元庫,大都用COT(客戶自有工具),這要求企業對工藝有相當的了解,而且一般IC產品用COT做的話,性能會提升很多,這也是國外企業雖然運營成本高但毛利率也高的原因所在,國內IC企業要提高競爭力,這方面的突破很關鍵。

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