爾必達宣布50nm制程2Gb GDDR5顯存開發完成

　　日本爾必達公司最近完成了采用銅互連技術的50nm制程 2Gb密度GDDR5顯存芯片的開發，這款產品據稱是在爾必達設在德國慕尼黑的設計中心開發完成的。爾必達表示公司將于今年7月份開始試銷這種50nm 2Gb GDDR5顯存樣片，而這款產品的量產則預計會定在今年7-9月份的時間段。

　　據爾必達表示，其設在廣島的芯片廠將負責這款2Gb GDDR5顯存芯片的生產，另外爾必達還透露公司1Gb密度的GDDR3/GDDR5顯存芯片產品已經外包給了臺灣華邦公司代工。

　　GDDR顯存的主要用途是圖形圖像處理如游戲機/PC機平臺，以及高性能計算應用，物理建模，數字圖像處理，視頻轉換等應用場合。使用2Gb密度GDDR5顯存芯片的顯卡產品將比1Gb密度芯片數量相同的同類產品顯存容量多出一倍。