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        如何選擇(集成)指紋模塊

        發(fā)布人:donnwe 時間:2022-07-30 來源:工程師 發(fā)布文章

        一、首先我們來看常用指紋模組的分類:

        1、電容指紋模塊

        DW611D.jpg


        2、光學(xué)指紋模塊

        DW243E.jpgDW264K.jpg

        二、光學(xué)指紋和電容指紋模組的核心要點比較:

             


        體積大小

        壽命

        低溫靜電

        干手指

        濕手指

        功耗

        識別速度

        光學(xué)

        100萬次

          一般

        不好

        一般

          

        基本

        一致

        電容

          

        30-40萬次

        稍慢

         

        三、選擇參數(shù)的說明:

         

        1、識別速度:對于光學(xué)指紋來說,識別的時間包含采圖時間和1:N比對時間相加,一般兩者相加為68-100毫秒。對于電容指紋模塊來說,識別時間包含特征采集時間和1:N比對時間相加,一般來說兩者相加約為110-650毫秒。如果產(chǎn)品是用在一些追求速度的場景,例如幾十人排隊識別的場景,建議選擇光學(xué),如果是少人使用的場景(例如保險柜、家庭指紋鎖、文件柜等)則不可以考慮電容指紋模塊。

         

        2、關(guān)于功耗:由于光學(xué)和電容的功耗主要是采圖和特征采集時間高,比對時間功耗非常低可以忽略,光學(xué)指紋模塊采圖時的功耗大致為150mA左右,電容指紋模塊特征采集時功耗大概為35mA左右。功耗主要是影響的是電池供電場景的電池續(xù)航時間,是電池供電場景非常重要的一個考慮參數(shù)。

         

        3、環(huán)境適應(yīng)性:環(huán)境適應(yīng)性主要考慮的是在極端環(huán)境下,例如東為地區(qū)的冬天低溫場景,一個是產(chǎn)品的低溫適應(yīng)性,低溫工作是多少度,更重要的是考慮抗靜電性,在這種場景電容的指紋模塊會占優(yōu)勢。

         

        4、整體來看就是在速度要求快,使用頻率高的場景選擇光學(xué)比較合適,例如考勤打卡。


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