- 1 引言 ESD(Electric Static Discharge)保護結構的有效設計是CMOS集成電路可靠性設計的重要任務之一，其E ...
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亞微米 CMOS電路 VDD-VSSESD
- 3 仿真分析及具體設計結果 3.1 仿真分析 在亞微米的ESD結構的設計中，一種常見的具體的ESD瞬態檢測 ...
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CMOS VDD VSSESD
- 1 引言 ESD(Electric Static Discharge)保護結構的有效設計是CMOS集成電路可靠性設計的重要任務之一，其E ...
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CMOS VDD VSSESD
- 3 仿真分析及具體設計結果3.1 仿真分析在亞微米的ESD結構的設計中，一種常見的具體的ESD瞬態檢測電壓如圖2 VDD-VSS間的電壓鉗位結構。其原理如下：主要利用結構中的RC延遲作用，一般T=RC被設計為100ns-1000ns之間，而
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VDD-VSSESD CMOS 亞微米 電路
- 1 引言ESD(Electric Static Discharge)保護結構的有效設計是CMOS集成電路可靠性設計的重要任務之一，其ESD結構與工藝技術、特征尺寸密切相關，隨著IC工藝技術的進一步發展，特征尺寸越來越小，管子的柵氧層厚度越來越
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VDD-VSSESD CMOS 亞微米 電路
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