首頁  資訊  商機   下載  拆解   高校  招聘   雜志  會展  EETV  百科   問答  電路圖  工程師手冊   Datasheet  100例   活動中心  E周刊閱讀   樣片申請
        EEPW首頁 >> 主題列表 >> euv設備

        euv設備 文章 進入euv設備技術社區

        2010決勝年 ASML 主攻38納米、EUV設備

        •   全球最大半導體微顯影設備業者ASML表示,目前客戶訂單增加相當多,但主是來自半導體業者制程微縮而非產能擴充的需求,半導體業者仍持續微縮半導體制程,摩爾定律預料將持續延續。以目前ASML最先進的浸潤式微顯影機種來看,新一代的機種NXT 1950i 也已于2009年下半出貨,未來將快速增加出貨,同時深紫外光(EUV)也至少囊括5套客戶訂單,對ASML來說2010年將是極重要的一年。   ASML NXT技術平臺資深經理Frank van de Mast指出,XT1900Hi的下一代機種NXT 1950i
        • 關鍵字: ASML  38納米  EUV設備  
        共1條 1/1 1

        euv設備介紹

        您好,目前還沒有人創建詞條euv設備!
        歡迎您創建該詞條,闡述對euv設備的理解,并與今后在此搜索euv設備的朋友們分享。    創建詞條

        熱門主題

        樹莓派    linux   
        關于我們 - 廣告服務 - 企業會員服務 - 網站地圖 - 聯系我們 - 征稿 - 友情鏈接 - 手機EEPW
        Copyright ?2000-2015 ELECTRONIC ENGINEERING & PRODUCT WORLD. All rights reserved.
        《電子產品世界》雜志社 版權所有 北京東曉國際技術信息咨詢有限公司
        備案 京ICP備12027778號-2 北京市公安局備案:1101082052    京公網安備11010802012473
        主站蜘蛛池模板: 乳山市| 东山县| 修文县| 铜山县| 喀喇沁旗| 邢台县| 平阳县| 察雅县| 固安县| 含山县| 宁远县| 通渭县| 武功县| 祁连县| 龙陵县| 谢通门县| 城固县| 渭南市| 驻马店市| 三门峡市| 赤壁市| 潼关县| 山东省| 锦州市| 东乡| 定安县| 扶沟县| 汉沽区| 彝良县| 牙克石市| 陇川县| 林口县| 新源县| 永新县| 聂拉木县| 额济纳旗| 会宁县| 东阳市| 湘阴县| 梧州市| 静宁县|