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        KLA-Tencor 以全新測量系統擴充其 5D? 圖型控制方案

        •   今天,KLA-Tencor Corporation推出兩款先進的量測系統,可支持 16 納米及以下尺寸集成電路器件的開發和生產:Archer™ 500LCM 和 SpectraFilm™ LD10。Archer 500LCM 套刻測量系統在提升成品率的所有階段提供了準確的套刻誤差反饋,可幫助芯片制造商解決新的圖型套刻問題,例如多層光刻和隔離層掩膜分割。通過對薄膜厚度和應力進行可靠、準確的測量,SpectraFilm LD10 薄膜測量系統能對 FinFETs、3D NAND 和
        • 關鍵字: KLA-Tencor  Archer  
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