- 日本佳能一直在投資納米壓印（Nano-imprint Lithography，NIL）這種新的芯片制造技術，并宣布推出“FPA-1200NZ2C”納米壓印半導體制造設備集群。計劃將新型芯片制造設備的價格定為阿斯麥極紫外光刻機的十分之一左右，從而在光刻機領域取得進展。佳能首席執行官御手洗富士夫（Fujio Mitarai）表示，基于NIL的新型芯片制造設備售價將比阿斯麥（ASML）的極紫外光刻（EUV）設備少一位數，雖然最終的定價目前還沒有敲定，但是可以預見將為小型芯片制造商生產先進芯片開辟出一條新的道路。
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- 佳能在 10 月 13 日宣布，正式推出納米壓印半導體制造設備。對于 2004 年就開始探索納米壓印技術的佳能來說，新設備的推出無疑是向前邁出了一大步。佳能推出的這個設備型號是 FPA-1200NZ2C，目前可以實現最小線寬 14nm 的圖案化，相當于生產目前最先進的邏輯半導體所需的 5 納米節點。佳能表示當天開始接受訂單，目前已經向東芝供貨。半導體行業可謂是「苦光刻機久已」，納米壓印設備的到來，讓期盼已久的半導體迎來一線曙光。那么什么是納米壓印技術？這種技術距離真的能夠取代光刻機嗎？納米壓印走向臺前想要
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- 佳能宣布推出FPA-1200NZ2C納米壓印半導體制造設備，該設備執行電路圖案轉移。自日本佳能(Canon)官網獲悉，10月13日，佳能宣布推出FPA-1200NZ2C納米壓印半導體制造設備，該設備執行電路圖案轉移，這是最重要的半導體制造工藝。（FPA-1200NZ2C 圖源:Canon)據悉，除了現有的光刻系統外，佳能還將采用納米壓印(NIL)技術的半導體制造設備推向市場，擴大其半導體制造設備陣容，以滿足從最先進的半導體設備到現有設備的廣泛需求。佳能官方介紹稱，其NIL技術可實現最小線寬14
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- 光譜，被視為物質的“指紋”，是各類物質與生俱來的“身份證”，而光譜儀就像一雙分辨光波的“眼睛”，通過準確測量物質“指紋”，“一眼洞穿”其化學成分和物理特性。 近期，利用光譜原理，中國科學院深圳先進技術研究院集成所副研究員林慧成功研發了一系列面向食品、藥品、照明檢測的超微型光譜儀，實現了光譜儀由大型科研儀器走向便攜應用的轉化。 林慧團隊從古代活字印刷術中獲得靈感，發明了用于曲面的柔性納米壓印技術，改進了關鍵器件，創新性地將光譜儀與合成生物學大設施、爬壁機器人等新領域結合，碰撞出全新應用場景。 集成
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