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        硅通孔 文章 最新資訊

        中微推出硅通孔刻蝕設備Primo TSV200E

        • 中微半導體設備有限公司(以下簡稱“中微”)推出了8英寸硅通孔(TSV)刻蝕設備Primo TSV200E(TM) -- 該設備結構緊湊且具有極高的生產率,可應用于8英寸晶圓微電子器件、微機電系統、微電光器件等的封裝。繼中微第一代和第二代甚高頻去耦合等離子刻蝕設備Primo D-RIE(TM) 和Primo AD-RIE(TM)之后,中微的這一TSV刻蝕設備將被用于生產芯片的3D封裝、CMOS圖像感測器、發光二極管、微機電系統等。中微的8英寸硅通孔刻蝕設備Primo TSV200E(TM)已經進入昆山西鈦微
        • 關鍵字: 中微  硅通孔  Primo TSV200E  

        ECI Technology的化學檢測系統成功在歐洲知名半導體研究中心裝載

        •         全球領先的濕法化學度量技術供應商ECI Technology近日宣布一家歐洲知名的半導體研究中心成功裝載了On-Line Quali-Line QLC-7500 Chemical Monitoring System(CMS)。ECI Technology將在近期舉行的SEMICON China中參展,展位號是4722。         QLC-750
        • 關鍵字: ECI  CMS  硅通孔  
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        硅通孔介紹

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