電子束光刻中心 文章 進入電子束光刻中心技術(shù)社區(qū)

英國開設(shè)全球第二個5納米以下電子束光刻中心

• 近日，英國南安普敦大學(xué)宣布成功開設(shè)了一個尖端電子束光刻（EBL）中心。這是日本以外全球首個分辨率達5納米以下的中心，也是歐洲首個此類電子束光刻中心。該中心能夠制造下一代半導(dǎo)體芯片。據(jù)南安普敦大學(xué)介紹，該電子束光刻中心采用日本JEOL公司的加速電壓直寫電子束光刻系統(tǒng)。這是全球第二臺200kV系統(tǒng)（JEOL JBX-8100 G3），第一臺在日本。該系統(tǒng)可在200毫米晶圓上實現(xiàn)低于5納米級精細結(jié)構(gòu)的分辨率處理，適用于厚至10微米的光刻膠，側(cè)壁幾乎垂直，有助于開發(fā)電子和光子學(xué)領(lǐng)域研究芯片中的新結(jié)構(gòu)。JEOL的另
• 關(guān)鍵字： 5納米  電子束光刻中心