創新技術賦能先進制造,推動產業效率革命?2025年3月27日,Semicon China 2025期間,全球領先的真空設備制造商愛發科集團正式推出三款面向先進半導體制造的核心設備:?多腔室薄膜沉積系統ENTRON-EXX?、?針對12英寸晶圓的?集群式先進電子制造系統uGmni-300以及離子注入系統SOPHI-200-H?。此次發布的產品以“靈活高效、智能協同”為核心設計理念,覆蓋晶圓制造、化合物半導體及封裝等關鍵領域,助力客戶實現技術突破與產能升級。多腔室薄膜沉積系統ENTRON-EXX:靈活智造,釋