- 中國臺灣自研重點放在半導體關鍵材料自主化，9家廠商年底將進行終端產線驗證。 最快明年深紫外光（DUV）曝光機的光阻劑核心材料，可打入臺積電、聯電等代工大廠產線中。微影制程是在晶圓上制作電路圖案，隨著精細度有DUV、EUV（極紫外光）差別。 光阻劑是一種光敏感材料，由樹脂、光敏感劑、溶劑和添加劑等組成，乃微影不可或缺重要材料。 至于曝光機的光罩部份，島內像是家登都有生產，比例已不低。但過去晶圓代工制程曾發生過光阻劑大缺貨，為了把關鍵材料掌握在自己手中，島內推動兩期半導體先進制程與封裝材料研發。 第一期202
- 關鍵字：
DUV 曝光機 光阻劑 臺積電 聯電
曝光機介紹
您好，目前還沒有人創建詞條曝光機!
歡迎您創建該詞條，闡述對曝光機的理解，并與今后在此搜索曝光機的朋友們分享。
創建詞條
關于我們 -
廣告服務 -
企業會員服務 -
網站地圖 -
聯系我們 -
征稿 -
友情鏈接 -
手機EEPW
Copyright ?2000-2015 ELECTRONIC ENGINEERING & PRODUCT WORLD. All rights reserved.
《電子產品世界》雜志社 版權所有 北京東曉國際技術信息咨詢有限公司
京ICP備12027778號-2 北京市公安局備案：1101082052 京公網安備11010802012473
