- 微影設備制造商ASML近期宣布，接獲美國一家主要客戶十五部EUV機臺訂單，并將于今年底開始陸續出貨;同時間，日本光阻材料大廠JSR也與IMEC合資成立新公司，致力生產EUV微影所需的光阻劑，為EUV微影技術的商用發展揭橥新的里程碑。
極紫外光微影(EUV Lithography)技術發展大有斬獲。半導體設備供應商艾司摩爾(ASML)日前公開宣布，該公司與美國一家主要客戶已簽屬協議書，將提供至少十五臺的最新一代EUV微影系統機臺，以支援不斷增加的制程開發活動和未來世代制程的試量產。
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