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        半導體電子束檢測 文章 最新資訊

        瞄準16/14nm檢測需求 漢微科明年產能翻三倍

        •   半導體電子束檢測(E-beam Inspection)設備龍頭漢微科正全速擴產。繼28和20奈米(nm)之后,2015年晶圓代工廠紛紛跨入16或14奈米鰭式電晶體(FinFET)世代,對高解析度的電子束檢測設備需求將更加強勁,因而帶動漢微科提早展開布局,將于2013~2014年投入新臺幣10億元擴建新廠房,并于2014下半年正式投產,挹注三倍設備產能。   漢微科財務長李學寒表示,自2012年開始,晶圓代工業者已逐步在28奈米先進制程中導入高階電子束晶圓缺陷檢測設備,以克服電晶體密度大幅微縮后,傳統
        • 關鍵字: 漢微科  半導體電子束檢測  
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        半導體電子束檢測介紹

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