- 目前全球僅4家廠商，能夠制造光刻機，分別是荷蘭的ASML，日本的尼康、佳能，和上海的微電子。從技術水平來看，ASML>尼康>佳能>上海微電子。如下圖所示，ASML的光刻機能夠達到3nm的精度了，而尼康的主要在28nm及以上，而佳能、上海微電子的在90nm以上。再給大家一個數字，這是某機構統計的，2021年全球半導體前道光刻機的銷售情況，從這張表可以看出來，小米7nm的EUV光刻機，ASML全部包攬。在45-7nm的光刻機上，僅有尼康、ASML能夠推出，尼康也就是打醬油，僅賣出4臺，另外的
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光刻機 ASML 尼康 佳能 上海微電子
- 半導體設備特別是光刻機技術難度很大，它對整個國家的工業基礎要求非常高，對國家創新能力及技術水平的提高作用很大，因此國家發展半導體設備裝備產業的決策非常正確。
但是，由于不同的設備制造難度、自身特點及市場規律不同，會存在不同的發展策略和思路，因此做法上不能千篇一律。每個公司的發展策略不同，我們現在強調的是，第一不能做假，第二要勇于創新。我們想建一座高樓大廈，隱蔽工程也就是地基要做得很扎實，只有地基深厚，微電子設備產業的大廈才能建得更高。
發展半導體設備產業，應發展重點產品，不該面面俱到。盡管
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上海微電子 IC 半導體 消費電子
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