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        首爾半導體應訴日亞化學 有望勝訴

        作者: 時間:2008-08-25 來源:focus 收藏

          領先的韓國制造商(SeoulSemiconductorCo.Ltd)宣布,針對日本化學工業有限公司(Nichia)稱侵犯其美國號:USP6,870,191,“191”)在美國密歇根地方法院的訴訟,將全力應訴,并認為在該訴訟中必定失利。在核對了號以后,首爾半導體相信日亞的基片是以突出和凹入的梯形面為特征,不同于首爾半導體。從此點可以判斷,首爾半導體將再一次勝訴。

        本文引用地址:http://www.104case.com/article/87309.htm

          首爾半導體的有關人員表示,日亞持續向媒體發放并未定案的訴訟消息,以混淆客戶對事件的認知。在之前的一起訴訟中,一位聯邦法官曾指出日亞不當行為,認為看似日亞利用訴訟“意圖在亞洲努力獲得附帶的利益。首爾半導體相信日亞的此次訴訟是對法律程序的又一次濫用。

          至今為止,首爾半導體和日亞在全球共有12次訴訟。首爾半導體相信同樣將在日亞此次美國密歇根州的訴訟中取得勝利。不久前,首爾半導體成功地指出日亞自稱為核心專利之一的專利缺乏“創新”。在該次訴訟中,首爾半導體再次指出,日亞191號專利同樣無效,原因是多重LED板結構與現有日亞產品雷同。

          首爾半導體15年來一直致力于LED的集中研發,擁有2,000多項專利以及生產銷售世界唯一的ACRICHE和DeepUVLED,并與全球領先的LED制造商開展相互授權(CrossLicense)合作。首爾半導體認可并尊重他人的知識產權,同時希望自身的知識產權也受到同樣的尊重。



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