美國材料信息學會和日立國際電氣簽署原子層沉積技術授權協(xié)議

　　美國材料信息學會(ASM International)與日立國際電氣(Hitachi Kokusai Electric Inc.，東京證券交易所(一部)和大阪證券交易所(一部))宣布，雙方已簽署一項授權協(xié)議。根據(jù)此項協(xié)議，美國材料信息學會將把原子層沉積技術專利在批次式原子層沉積領域的使用權授予日立國際電氣。協(xié)議的詳細條款未對外披露。

　　多年來，美國材料信息學會一直是原子層沉積領域的先驅，擁有大量專利，包括原子層沉積專利以及在豎爐中成批實施原子層沉積的技術專利。這一技術使得在豎爐中實施原子層沉積并同時處理多個晶片成為可能，也為原子層沉積技術的各類應用帶來了擁有成本的益處。

　　美國材料信息學會總經(jīng)理Albert Hasper博士表示：“美國材料信息學會的創(chuàng)新能力舉世聞名，尤其是在原子層沉積領域。多年來，公司政策始終注重對創(chuàng)新及其保護的投入。很高興日立國際電氣對這一IP組合的價值表示認可，我們已通過專業(yè)而商業(yè)化的方式達成了一項協(xié)議，符合雙方的共同利益。隨著市場對廉價原子層沉積產(chǎn)能的需求與日俱增，我們相信，轉讓這一技術，并允許其他供應商與我們一道滿足這一需求，對半導體行業(yè)而言是極為有利的。”

　　日立國際電氣總經(jīng)理Shoichiro Izumi先生表示：“很早以前，我們便已開始投身批次式原子層沉積技術的開發(fā)，并致力于為顧客提供優(yōu)質的半導體設備。我們相信，此項協(xié)議將推動原子層沉積技術的發(fā)展，我們也將進一步為顧客創(chuàng)造福利。”