ATMI 和安集微電子推出替代型低成本鋁清洗解決方案

　　ATMI, Inc. 和安集微電子（上海）有限公司宣布向市場推出 IDEAL Clean™ 高性能清洗解決方案。IDEAL Clean™ 是一種優越的蝕刻后灰燼鋁清洗化學物質，它具有與以羥胺為基礎的化學產品相當或更優的性能，但是擁有它的成本卻得以大幅降低。

　　安集微電子首席運營官王淑敏(Shumin Wang,譯音)博士表示：“IDEAL Clean 鋁清洗工藝的成功推出反映了我們兩家公司將重點放在增進客戶效率的戰略。我們雙方的合作結合了世界級標準的質量和性能，以及最新本土的開發、制造和支持。這種獨一無二的結合使我們能夠讓客戶享受到成本非常低的好處，同時帶來更優越的價值。ATMI 與安集微電子的合作使得我們的勢頭不斷增強，讓我們能夠以更多的化學產品贏得更廣泛的客戶群。這些化學產品不僅能增強性能，而且還能改進工藝解決方案，從而使我們客戶的整體運營成本更低。”

　　ATMI 的表面預處理部門主管 John Bubel 表示：“IDEAL Clean 解決方案的推出是邁進鋁清洗領域的一次意義重大的事件，它為我們的客戶提供了比現有產品更多的一種選擇。與以羥胺的基礎的產品相比，IDEAL Clean 的工藝性能卓越而且取得成本大幅降低，IDEAL Clean 高性能清潔產品實現了 ATMI 對該市場的工藝效率解決方案的長期承諾。”

　　ATMI 與安集于2005年達成了一項聯合開發協議，致力于以銅以及其它集成電路制作工藝的高性能材料進行開發與營銷。