諾發推出300mm VECTOR等離子增強化學氣相沉積平臺的最新增強版本

　　中國上海—諾發系統有限公司正式推出VECTOR Express™新產品。VECTOR Express™是諾發公司300mm VECTOR等離子增強化學氣相沉積（PECVD）平臺的最新增強版本。VECTOR Express的工藝生產速度提高了40%，保持了業界領先的生產效率。此外，VECTOR Express還建立了薄膜工藝性能的新標桿，使該設備能夠被延伸到45nm及以下工藝節點。

　　VECTOR Express之所以能夠顯著提高生產效率和改善薄膜工藝性能，其關鍵在于SmartSoak™工藝新特點。SmartSoak采用了諾發VECTOR平臺獨特的多平臺順序處理（MSSP）結構，使晶圓加熱和薄膜淀積過程相互獨立開來。通過這種方法可以使晶圓溫度在薄膜開始沉積時變得更加穩定和一致，同時還能夠縮短薄膜沉積的時間。

　　客戶評估結果顯示，將具備SmartSoak技術的VECTOR Express系統用于500Å TEOS薄膜沉積時，0.08um大小的微粒缺陷水平是所有類似產品中最低的。進行40Å柵側壁氧化膜沉積時，薄膜厚度控  
制水平在1個原子層之上，表明該系統在晶圓內部以及晶圓與晶圓之間的薄膜厚度控制上具有非常出色的可重復性表現。

　　除了SmartSoak之外，VECTOR Express還采用了高精度和高速度的機械傳送零部件和晶圓自動監測技術，使晶圓機械傳送和處理時間縮短了20%以上。此外，VECTOR Express還采用了先進的材料傳輸新技術，進一步確保該系統能夠被拓展到各種薄膜沉積工藝中。

　　自從于2006年第3季度開始進行beta測試以來，諾發已經收到了20多份有關VECTOR Express系統的訂單，其中包括好幾個新客戶。VECTOR Express將于2007年第2季度正式用于生產。