差分放大器的不匹配效應及其消除
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如圖7(b)所示，為了避免溝道效應，通常在源一漏離子注入時把注入方向(或圓片方向)傾斜7°左右，這樣柵極多晶硅就會阻擋一部份離子，形成陰影區。結果，在源區或漏區就有一條窄區，它接收的注入較小，因而在注入退火之后，使源區和漏區邊緣的擴散產生了細微的不對稱。
圖7(a)給出考慮有柵陰影存在時的結構圖，在圖中，如果陰影區出現在源區(或漏區)，那么這兩個器件不會因陰影導致不對稱。在圖中，即使標出了這兩個管子在陰影區的源(或漏)極，這兩個MOS管也不一樣，這是因為M1管源區的右邊是M2管，而M2管源區的右邊是場氧。同樣，M1和M2左邊的結構也不一樣。就是說在制造過程中，M1和M2周圍的工藝步驟不一致。因此圖8所示的結構更好。
圖8所示結構固有的不對稱性可以通過在晶體管兩邊加兩個虛擬MOS管的方法加以改進，因為這可以使M1和M2管周圍的環境幾乎相同，如圖9所示。
同時，在對稱軸的兩邊保持相同環境也很重要。例如，在版圖中，只有一個MOS管旁邊有一條無關的金屬線通過，這會降低對稱性，增大M1和M2之間的失配。在這種情況下，也可以在另一邊放置一條相同的金屬線(見圖10)，最好的辦法就是去掉引起不對稱的金屬線。
對于大的晶體管，對稱性就變得更困難了。例如，在圖11所示的差分對中，為使輸人失調電壓較小，這兩個
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