傳統(tǒng)過孔數(shù)顯著增加 條狀過孔成大勢所趨

　　對于28納米及以下節(jié)點，指導過孔選擇和放置的規(guī)則遠比圖表復雜（圖2）。不僅僅有更多規(guī)則，而且規(guī)則更加復雜。正如討論的一樣，視情況而定，可供選擇的過孔類型也很多。各代工廠有自己的優(yōu)先次序，這決定其將選擇哪種過孔類型。此外，過孔放置還可能受雙重成像等設計因素的影響。

　　圖2 繞線工具正面臨過孔規(guī)則增多及其復雜性提高帶來的挑戰(zhàn)

　　與過孔選擇相關的新工藝的要求不僅非常多，而且執(zhí)行起來相當復雜。如果您使用的是矩形過孔，該如何放置過孔陣列呢？應對雙圖案需求時，如何準確確定過孔是不是被包住呢？LEF/技術文件不僅需要能夠了解和應對這些情況，還必須能夠了解和適應特定工廠對 優(yōu)先事項、選擇順序、過孔方向和過孔被包住的要求。繞線工具每放置一個過孔，必須確定布局選項，然后了解工廠的優(yōu)先順序來確定正確的過孔選擇和放置。此外，正如之前所討論的，這些優(yōu)先事項可能會經(jīng)常發(fā)生變化，需要不斷更新繞線規(guī)則。

　　因此，設計師將做些什么呢？即使你盡可能的充分利用里繞線系統(tǒng)工具，比如說，使用LEF/技術文件實現(xiàn)的布局中完成了約80%的過孔放置，您將仍然會錯過約20%需要做的事情來優(yōu)化過孔選擇和布局。當然，正如您在學校學到的，這樣的20%通常是最難且最具挑戰(zhàn)性的過孔優(yōu)化，造成良率影響的可能性最大。盡管有這些獲得工廠認證的實用工具幫助您成功排除和糾正這些過孔問題，準確反標到設計布局文件 （DEF） 需花費多少時間和精力呢？

　　然而，還是存在著希望。最近的技術進步使得使用這些代工廠驗證過的實用工具自動解決這些復雜的過孔擺放問題使其符合 DRC/DFM 規(guī)則， 而且可以把這些改變自動反標在原始的布局和布線的 DEF 中變得可行。不遠的將來，設計師有可能可確保在設計流程的布局和布線階段能夠高效、準確和迅速地實現(xiàn)設計所需的100%過孔優(yōu)化。

　　
Jean-Marie Brunet是俄勒岡州 Wilsonville 明導公司（Mentor Graphics） 可制造設計和布局布線整合產(chǎn)品營銷總監(jiān)。