- 對于28納米及以下節(jié)點，各種新的設計要求使工程師不得不調整傳統的數字電路板圖設計和驗證流程。尤其值得一提的是，過孔的使用受到了很大的影響。新的過孔類型已推出，雙重成像（double patterning）、FinFETS 和其它新的設計技巧的加入不僅使過孔的使用顯著增多
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條狀過孔 雙重成像 FinFETS 矩形過孔 布局布線
- 摘要：對于28納米及以下節(jié)點，選擇和放置多種過孔類型的復雜要求對LEF/技術文件的繞線構成了挑戰(zhàn)，導致設計規(guī)則檢 ...
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過孔數 條狀過孔
條狀過孔介紹
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