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        集成電路設計園二期推動產業創新能級提升

        —— 集成電路產業新地標
        作者: 時間:2025-03-12 來源: 收藏

        在2025海淀區經濟社會高質量發展大會上,海淀區對18個園區(樓宇)的優質產業空間及更新改造的城市高品質空間進行重點推介,誠邀企業來海淀“安家”。2024年8月30日正式揭牌的集成電路設計園二期就是其中之一。

        本文引用地址:http://www.104case.com/article/202503/467987.htm

        據了解,集成電路設計園二期由海淀區政府和中關村發展集團聯合打造,ICPARK運營服務。作為北京集成電路產業的核心承載區,集成電路設計園二期揭牌啟動,標志著海淀區在推動產業創新能級提升、構建高精尖產業生態方面邁出了重要一步。

        集成電路設計園二期項目位于海淀北部新區,毗鄰故宮北院區,區域匯聚多個高新技術產業組團,生態、人文、商業等資源豐富,是海淀最具潛力的價值增長點。項目聚焦集成電路設計,布局人工智能、大數據和區塊鏈等高精尖產業領域,打造以龍頭企業為引領、高成長性企業為支撐、小微企業為補充的科技園區。

        空間豐富產業載體靈活多樣

        集成電路設計園二期項目先期選擇海淀大悅信息科技園D區四棟樓宇作為起步區,共計面積3.5萬平方米,未來周邊可拓展至10萬平方米。產業空間地上為4-5層,標準層面積為1993-2558平方米,層高分為4.2米、3.85米兩種產品類型。在設計上,預留室內開敞大空間辦公,空間靈活可變;設置單核心筒、雙核心筒兩種形式,滿足分層租賃和垂直獨立交通和租賃的多樣性需求。結合建筑立面設置室外休息平臺,豐富空間感受,為企業打造舒適、高效的辦公環境。

        園區內設置景觀下沉庭院,周邊兼顧不同的業態功能,其中辦公下沉庭院周邊設置展示中心、路演廳、會議中心、員工餐廳等配套設施,提供辦公服務支撐。為滿足辦公人群互動與交流的需求,設置小型餐飲、咖啡廳等商業配套。空間豐富、功能多樣的下沉庭院,為園區增添了時尚、休閑、娛樂等豐富的文化元素。

        園區借鑒紐約高線公園設計手法精心打造的高線連廊,以抬高的空中步道打造半空漫步系統,讓產業辦公樓宇與海淀大悅城無縫對接。平均間隔約180米設置上下垂直交通,將人流通過大臺階、扶梯便利地引入辦公或地下商業空間。

        聯動發展與ICPARK共建產業格局

        據項目負責人介紹,集成電路設計園二期將依托ICPARK作為國內領先科技園區的專業運營服務優勢,全方位導入ICPARK在人才培養、資本賦能、科技成果孵化轉化以及共性技術服務等方面的優勢創新資源,實現一、二期在物理空間、產業集聚、“一平臺、三節點”產業服務體系等維度的聯動發展,更好地服務企業創新突破,多點成面推動北京集成電路產業創新能級提升。

        ICPARK精心打造以“一平臺、三節點”為核心的一站式產業服務體系,鏈接“政產學研用”等創新要素資源,為企業發展提供全生命周期的產業服務。“一平臺、三節點”產業服務體系聚合各類專業服務機構100多家,打通了企業以及政策、人才、資本的溝通壁壘,年均提供服務千余家次。

        集成電路設計園二期項目自揭牌以來,已陸續吸引人工智能、集成電路設計相關企業、韓國半導體設計協會等國內外高新技術企業、行業協會考察、交流,園區將持續優化配套和產業生態,加速產業集聚,不斷壯大集成電路產業規模,為海淀北部科創高地建設增磚添瓦。



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