普發真空打造全新硅谷創新中心 助力未來半導體行業發展

12月10日，全球領先的真空解決方案供應商普發真空全新建立了一個規模達一萬平方英尺的硅谷創新中心 (SVIC)，這座最先進的真空技術研發中心位于美國加州圣何塞市白令大道 2381 號，啟動后可創造 20 多個高科技工作崗位。

●   普發真空在未來半導體技術領域與客戶開展協作

●   硅谷創新中心將幫助客戶測試和評估新的真空解決方案

●   普發真空專家團隊提供專業技術與知識支持

普發真空持續為半導體市場以及分析、工業、研發市場提供領先的真空解決方案，憑借其在半導體領域豐富的應用實踐以及集成化的產品，該硅谷創新中心將致力于為北美客戶解決有關高真空技術的所有技術問題，便于客戶在早期開發階段就能測試和評估為其應用設計的新真空解決方案。此外，創新中心的專家和研究人員將為所有普發真空產品提供直接的專業技術支持，并與全球的普發真空研發部門建立無縫連接。

“普發真空致力于為半導體行業的客戶推動創新，并支持未來技術的發展，為了踐行這一愿景，我們打造了硅谷創新中心。”普發真空技術股份公司（Pfeiffer Vacuum Technology AG）首席執行官Britta Giesen 博士說。

在半導體工業中，真空技術被用于生產微處理器、存儲介質、高清顯示器等，主要涉及大量中型和大型前級泵，以及渦輪泵和測量儀器。另外，借助污染分析和泄漏檢測系統，芯片制造商可以顯著提高產量。

“隨著微處理器生產的復雜性不斷增加，與硅谷客戶的直接合作對我們來說變得越來越重要，”普發真空北美銷售副總裁 Ming Lee 表示，“為了與我們的客戶進行更密切的合作，高效地設計出能解決他們技術挑戰的真空產品和解決方案，硅谷創新中心及其專家團隊將扮演至關重要的角色。”