賽默飛Talos F200E 掃描透射電子顯微鏡提供原子級成像和快速EDS分析

科學服務領域的世界領導者賽默飛世爾科技（以下簡稱：賽默飛）宣布推出Talos F200E掃描透射電子顯微鏡（以下簡稱：(S)TEM），這款產品提供原子級分辨率成像和快速的能量色散X射線能譜（以下簡稱：EDS）分析，可提升數據可靠性，滿足半導體行業日益增長的需求。

隨著5G時代的到來，通信技術的快速發展將進一步激發對更高效能的半導體設備的需求。自動駕駛、人工智能、工業4.0、智慧城市和物聯網（IoT）也都在推動半導體制程向著更小、更復雜的方向發展。半導體行業的發展驅使其研發實驗室需要更高效的解決方案予以支持，以滿足在原子級分辨率上的大批量、可復現的 (S)TEM結果的實現。

Talos F200E (S)TEM 可發揮其自動校準的屬性，控制圖像畸變≤1%，使用戶能夠獲得快速、可靠和可重復的結果。可配置的Dual-X比之前的Talos F200X 提供了更強大的EDS探測器，使EDS分析速度提高了1.5倍。Talos F200E 具有成本效益，易用性高，幫助半導體實驗室實現快速的樣品表征，加快可以量產的速度，提高制程良率。

“隨著創新的步伐不斷加快，半導體企業要求其分析實驗室加快周轉時間，并在各種設備和工藝技術上提供更可靠和可復現的(S)TEM數據，以支持他們的業務，”賽默飛半導體事業部副總裁Glyn Davies說道，“Talos F200E通過提供高質量的圖像數據、快速的化學分析和行業領先的缺陷表征等特質，可以為客戶提供高性價比、易用的解決方案。”