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        低電壓大電流VRM拓撲結構和均流技術研究

        作者: 時間:2012-08-29 來源:網絡 收藏

        (a)

        (b)

        圖4 RC開關網絡

        圖5簡單的檢測技術

        文獻[1]中有

        (1)

        在(1)式中被檢測到的平均電感僅受 的影響。R和C的精確度,電感值和MOSFET導通電阻對均流效果都沒有影響。

        2.2 控制技術

        從上面提出的控制電流的方法,我們可以得到一種不同于傳統的均流方法的另一種比較簡單的均流控制技術。如圖6所示充分利用平均 信號,每一個的電流就得到了控制。在圖6中的控制功能塊包括均流控制環和環。所有并行的共同使用一個環。每一個有它自己的控制電流的RC開關網絡和自己的均流控制環。

        在圖6中,感應到的平均電流的信息由電容電壓信號控制。文獻[1]中有

        (2)

        (3)

        表示每一個模塊的平均電流。首先我們假設了 相等。它表示著電感的磁芯設計和分布設計在這兩個模塊中都是對稱的。實際上,在制作時這種對稱是很容易控制的。為了能夠達到電流在兩個模塊之間分布的一致性, 必須等于 。從式(1)得,如果 相等,并且 相等,那么 就相等所以現在我們很清楚均流控制環控制的目的就是控制 并且使得兩者相等。圖6為控制兩個RC開關網絡并且使得 相等的一種簡單的方法。在圖6中均流控制環使用了一個積分調節器,所以沒有穩態誤差。兩個RC開關網絡的輸出電壓 應該和參考電壓相等。使用圖6所示的控制方法 總是相等,根據(2)和(3)式,則有

        圖6新型的均流技術

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