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        挑戰(zhàn)1nm制程的竟是她!MIT教授、「北大才女」孔靜團隊發(fā)現(xiàn)原子級「鉍」密武器

        發(fā)布人:傳感器技術(shù) 時間:2021-05-22 來源:工程師 發(fā)布文章
        【導(dǎo)讀】3nm,2nm, 1nm,先進制程逐漸逼近「硅」的物理極限!近日,「北大才女」孔靜教授帶領(lǐng)團隊找到了代替「硅」的新興半導(dǎo)體材料——鉍(Bi),未來將挑戰(zhàn)1nm以下的制程,有助于突破「摩爾定律」極限。


        當(dāng)「硅」達(dá)到物理極限,該怎么解?

         

        這一困惑科學(xué)界的難題,近日就由「北大才女」孔靜教授領(lǐng)導(dǎo)的一支國際聯(lián)合攻關(guān)團隊「破解」

         

        他們成功攻克了半導(dǎo)體領(lǐng)域的二維材料的連接難題,研發(fā)出半導(dǎo)體新材料——半金屬鉍(Bi)

         

        這項成果將使晶圓的先進制程從納米級,微觀到「原子級」

         

        新大陸「鉍」的發(fā)現(xiàn)者,攻克半導(dǎo)體「2D」材料連接難題


        目前硅基半導(dǎo)體已經(jīng)推進到5nm和3nm,IBM也剛剛宣布了突破2nm的「PPT 工藝」

         

        不過,2nm之后就是1.5nm、1nm。


        單位面積容納的晶體管數(shù)量,逐漸逼近硅材料物理極限,但是效能無法逐年顯著提升。

         

        幾十年來,半導(dǎo)體行業(yè)進步的背后存在著一條金科玉律,即「摩爾定律」

         

        摩爾定律表明:每隔 18~24 個月,封裝在微芯片上的晶體管數(shù)量便會增加一倍,芯片的性能也會隨之翻一番。


        然而,硅片觸及物理極限,除非找到新的方法,否則這些限制可能會使幾十年的進展停滯不前。

         

        盡管科學(xué)界對二維材料寄予厚望,卻苦于無法解決二維材料高電阻、低電流等問題。

         

        現(xiàn)在,麻省理工學(xué)院(MIT)的孔靜教授領(lǐng)導(dǎo)的國際聯(lián)合攻關(guān)團隊探索了一個新的方向:使用原子級薄材料鉍(Bi)代替硅,有效地將這些2D材料連接到其他芯片元件上。

         

        這項最新研究「Ultralow contact resistance between semimetal and monolayer semiconductors」已發(fā)表在Nature期刊上。

         

        孔靜教授是項目的領(lǐng)導(dǎo)者,研究方向制定者并設(shè)計了實驗,參與論文撰寫。



        其實這項研究是MIT、臺大、臺積電共同「合力」的成果。自2019年,這三個機構(gòu)便展開了長達(dá)1年半的跨國合作。

         

        這個重大突破先由孔靜教授領(lǐng)導(dǎo)的MIT團隊「發(fā)現(xiàn)」「二維材料」上搭配「半金屬鉍(Bi)」的電極,能大幅降低電阻并提高傳輸電流。


        臺積電技術(shù)研究部門則將「鉍(Bi)沉積制程」進行優(yōu)化

        最后,臺大團隊運用「氦離子束微影系統(tǒng)」將元件通道成功縮小至納米尺寸,終于獲得突破性的研究成果。

         

        Bi 給「摩爾定律」續(xù)命?

         

        鉍(Bi)是一種有望突破摩爾定律1nm極限的新材料!

         

        這種材料被作為二維材料的接觸電極,可以大幅度降低電阻并且提升電流,從而使其能效和硅一樣,實現(xiàn)未來半導(dǎo)體1nm工藝的新制程!


        未來,「原子級」薄材料是硅基晶體管的一種有前途的替代品。

         

        研究人員表示,他們解決了半導(dǎo)體設(shè)備小型化的最大問題之一,即金屬電極和單層半導(dǎo)體材料之間的接觸電阻,該解決方案被證明非常簡單,

         

        即使用一種半金屬,即鉍元素(Bi),來代替普通金屬與單層材料連接。

         

        這種超薄單層材料,在這種情況下是二硫化鉬,被認(rèn)為是繞過硅基晶體管技術(shù)現(xiàn)在遇到的小型化限制的主要競爭者。

         

        金屬和半導(dǎo)體材料(包括這些單層半導(dǎo)體)之間的界面產(chǎn)生了一種叫做金屬誘導(dǎo)的間隙(MIGS)狀態(tài)現(xiàn)象,這導(dǎo)致了肖特基屏障的形成,這種現(xiàn)象抑制了電荷載體的流動。

         

        使用一種半金屬,其電子特性介于金屬和半導(dǎo)體之間,再加上兩種材料之間適當(dāng)?shù)哪芰颗帕校Y(jié)果是消除了這個問題。

         

        研究人員通過這項技術(shù),展示了具有非凡性能的微型化晶體管,滿足了未來晶體管和微芯片技術(shù)路線圖的要求。

         

        「至少在不久的將來,這可能足以擴展摩爾定律。」

         

        臺大電機系暨光電所吳志毅教授表示,在使用「鉍(Bi)」為「接觸電極」的關(guān)鍵結(jié)構(gòu)后,二維材料電晶體的效能,不但與「硅基半導(dǎo)體」相當(dāng),又有潛力與目前主流的硅基制程技術(shù)相容,有助于未來突破「摩爾定律」極限

         

        「北大才女」孔靜

         

        孔靜教授目前是MIT電子工程和計算機科學(xué)系教授,同時也是電子研究實驗室(Research Laboratory of Electronics,RLE) 學(xué)術(shù)帶頭人。


        她于1997年獲得北京大學(xué)化學(xué)學(xué)士學(xué)位,2002年獲得斯坦福大學(xué)化學(xué)博士學(xué)位。

         

        從2002年到2003年,她是美國國家航空航天局埃姆斯研究中心的研究科學(xué)家;

         

        從2003年到2004年,她是代爾夫特大學(xué)的博士后;

         

        她于2004年加入麻省理工學(xué)院電子工程和計算機科學(xué)系。

         

        在她的小組研究活動包括CVD合成石墨烯的特性和相關(guān)的二維材料,其電子和光學(xué)特性的研究和應(yīng)用。


        孔靜教授的研究興趣集中在將單個碳納米管的合成和制造結(jié)合起來,并將其集成到電路中的相關(guān)問題。研究應(yīng)用包括使用碳納米管作為極其敏感的化學(xué)傳感器來檢測有毒氣體。

         

        孔靜教授是美國化學(xué)學(xué)會,美國物理學(xué)會和材料研究學(xué)會的成員。她在2001年獲得了2001年納米技術(shù)前瞻性杰出學(xué)生獎,在2002年獲得了斯坦福大學(xué)物理化學(xué)年度評論獎,并在2005年獲得了MIT 3M獎。


        參考資料:

        https://www.eecs.mit.edu/people/faculty/jing-konghttps://www.rle.mit.edu/people/directory/jing-kong/
        https://m.toutiao.com/is/ePSDBum/https://www.eet-china.com/kj/63360.htmlhttps://www.cnbeta.com/articles/science/1130561.htm


        來源:新智元


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