- 1 前言鑒于超聲波清洗效果好、效率高、成本低等優點，超聲波清洗機被廣泛應用于電子、機械、鐘表、光學、醫療、化纖、電鍍等行業[1]。在超聲波清洗設備中，超聲波電源是其重要組成部分之一。現有的超聲波電源大多數采
- 關鍵字：
電源 研制 清洗 超聲波 大功率 智能
- 中心議題：
半導體清洗技術的進展
當前與未來的挑戰
解決方案：
濕法清洗
廣泛使用臭氧水
晶圓清洗是半導體制造典型工序中最常應用的加工步驟。就硅來說，清洗操作的化學制品和工具已非常成熟，有多年廣泛深入的研究以及重要的工業設備的支持。所以，硅清洗技術在所有具實際重要性的半導體技術中是最為成熟的。第一個完整的、基于科學意義上的清洗程序在1970年就提出了，這是專門設計用于清除Si表面的微粒、金屬和有機污染物。
此后，硅清洗技術經歷了持續的發展改進，包括早期用氣相等
- 關鍵字：
半導體 清洗
- 精密清洗產品以及清洗服務供應商ZESTRON向外界公布其對沈健（John Shen）為中國區總經理的任命。
沈先生將在其新的職位上繼續拓展ZESTRON在中國以及北亞地區作為清洗工藝供應商的領導地位。
ZESTRON亞洲區資深副總裁Ralph Ho
- 關鍵字：
ZESTRON 清洗
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