- ??????? IMEC將于2月23日至27日在美國加州San Jose舉行的SPIE先進微光刻會議上展現半導體光刻研究中最新的研發突破。
??????? IMEC將在會上發表26片論文。這些論文報道了IMEC及其世界領先的EUV和雙版光刻技術合作伙伴在32nm以下節點光刻技術中所獲得的成果。光刻技術的一系列挑戰都在這些論文中有所涉及，包括材料、制造工藝、測量、檢測
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IMEC 微光刻 半導體
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