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        memsstar 文章 最新資訊

        memsstar談MEMS刻蝕與沉積工藝的挑戰

        •   魯?冰?(《電子產品世界》記者)  不久前,MEMS蝕刻和表面涂層方面的領先企業memsstar向《電子產品世界》介紹了MEMS與傳統CMOS刻蝕與沉積工藝的關系,對中國本土MEMS制造工廠和實驗室的建議等。  1 MEMS比CMOS的復雜之處  MEMS與CMOS的根本區別在于:MEMS是帶活動部件的三維器件,CMOS是二維器件。因此,雖然許多刻蝕和沉積工藝相似,但某些工藝是MEMS獨有的,例如失效機理。舉個例子,由于CMOS器件沒有活動部件,因此不需要釋放工藝。正因為如此,當活動部件“粘”在表面上
        • 關鍵字: 202006  MEMS  CMOS  memsstar  

        memsstar的MEMS征程

        •   MEMS是多學科交叉融合的前沿技術,在后摩爾時代,MEMS正在憑借其層出不窮的新應用而大放異彩。MEMS以其微型化的優勢,在消費電子、醫療電子和汽車電子等方面有著廣闊的應用前景。   
        • 關鍵字: memsstar  MEMS  
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        memsstar介紹

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