- 2001年3月28日,國務院第36次常務會議通過了《集成電路布圖設計保護條例》。
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集成電路 IC設計
- 2000年7月11日,國務院頒布了《鼓勵軟件產業和集成電路產業發展的若干政策》。 隨后科技部依次批準了上海、西安、無錫、北京、成都、杭州、深圳共7個國家級IC設計產業化基地。
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集成電路 IC設計
- 1994年11月,首鋼日電電子有限公司集成電路生產線在京建成投產,該公司是首鋼總公司與日本NEC合資興建的大規模集成電路設計、開發、生產、銷售企業。總投資額260億日元.,其中首鋼總公司占60%,NEC占40%。首鋼日電公司的前工序生產線具有6英寸、1.2微米。術水平,月投片5000片,預計到1997年月投片將達到8000片。后工序組裝生產線可批量生產4兆位動態存儲器、線性集成電路、彩電電路等。
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NEC IC設計
- 1987年,我國第一條雙極集成電路生產線在無錫微電子聯合公司首次突破設計能力,年產達3003萬塊雙極IC。
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集成電路 IC設計
ic設計介紹
IC設計是將系統、邏輯與性能的設計要求轉化為具體的物理版圖的過程, 也是一個把產品從抽象的過程一步步具體化、直至最終物理實現的過程。為了完成這一過程, 人們研究出了層次化和結構化的設計方法:層次化的設計方法能使復雜的系統簡化,并能在不同的設計層次及時發現錯誤并加以糾正;結構化的設計方法是把復雜抽象的系統劃分成一些可操作的模塊,允許多個設計者同時設計,而且某些子模塊的資源可以共享。
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