- 今天，KLA-Tencor 公司針對 10 納米及以下的掩膜技術推出了三款先進的光罩檢測系統，Teron? 640、Teron? SL655 和光罩決策中心 (RDC)。所有這三套系統是實現當前和下一代掩膜設計的關鍵，使得光罩廠和集成電路晶圓廠能夠更高效地辨識光刻中顯著并嚴重損害成品率的缺陷。
利用創新的雙重成像技術，Teron 640 檢測系統為光罩廠提供了必要的靈敏度，對先進的光罩進行準確的品質檢驗。Teron SL655 檢測系統采用全新的 STARlightGol
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KLA-Tencor SL655
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