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        德國建立32nm光刻掩膜研發項目

        •   先進掩膜技術中心(AMTC)、半導體設備供貨商Vistec和德國國家物理技術研究院(PTB)將共同完成研發下一代芯片生產技術和量測流程的開發項目。   德國教育部對此代號為“CDuR32 (32nm掩膜光刻技術的核心演習和使用) ”的研發項目提供了部分資助。該項目的總預算資金為16.7百萬歐元(約24.3百萬),其中德國政府資助了7.9百萬歐元。   該項目預計為期2.5年,旨在研發掩膜技術以用于今后其Dresden晶圓廠32nm存儲芯片和22nm微處理器的生產。AMTC由
        • 關鍵字: 掩膜  AMTC  半導體  PTB  
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