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九峰山實(shí)驗(yàn)室推出全國(guó)首個(gè)100nm高性能氮化鎵流片PDK平臺(tái)

• 近日，九峰山實(shí)驗(yàn)室發(fā)布國(guó)內(nèi)首個(gè)100 nm硅基氮化鎵商用工藝設(shè)計(jì)套（PDK），性能指標(biāo)達(dá)到國(guó)內(nèi)領(lǐng)先、國(guó)際一流水平。作為全球第二個(gè)、國(guó)內(nèi)首個(gè)商用方案，其技術(shù)指標(biāo)可支撐高通量Ku/Ka頻段低軌衛(wèi)星通信，能夠滿足下一代移動(dòng)通信、商用衛(wèi)星通信與航天領(lǐng)域、車聯(lián)網(wǎng)及工業(yè)物聯(lián)網(wǎng)、手機(jī)終端等多領(lǐng)域?qū)Ω哳l、高功率、高效率氮化鎵器件的需求，推動(dòng)我國(guó)相關(guān)領(lǐng)域器件從“進(jìn)口替代”邁向“技術(shù)輸出”。PDK（Process Design Kit，工藝設(shè)計(jì)套件）是半導(dǎo)體制造中不可或缺的工具包。它為芯片設(shè)計(jì)者提供工藝參數(shù)、器件模型、設(shè)計(jì)規(guī)
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