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        基于模型的建議:光刻友好設(shè)計成功的導(dǎo)航

        • 如今對于一些技術(shù)節(jié)點,設(shè)計人員需要在晶圓代工廠流片和驗收之前進行光刻友好設(shè)計(Litho Friendly Design) 檢查。由于先進節(jié)點的解析度增進技術(shù)(RET) 限制,即使在符合設(shè)計規(guī)則檢查 (DRC) 的設(shè)計中,我們?nèi)钥吹搅烁嗟闹圃靻栴}。
        • 關(guān)鍵字: 模型  光刻  DRC  MBH  
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