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        mbh 文章 最新資訊

        基于模型的建議:光刻友好設計成功的導航

        • 如今對于一些技術節點,設計人員需要在晶圓代工廠流片和驗收之前進行光刻友好設計(Litho Friendly Design) 檢查。由于先進節點的解析度增進技術(RET) 限制,即使在符合設計規則檢查 (DRC) 的設計中,我們仍看到了更多的制造問題。
        • 關鍵字: 模型  光刻  DRC  MBH  
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