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EVG集團在融化晶圓鍵合領域取得重大突破,一舉掃清制造3D-IC硅片通道大容量設備的主要障礙

- 印刷設備的主要供應商,EVG集團今日公布了新一代融化晶圓鍵合平臺GEMINI®FB XT,該平臺匯集多項技術突破,令半導體行業(yè)向實現(xiàn)3D-IC硅片通道高容量生產(chǎn)的目標又邁進了一步。新平臺晶圓對晶圓排列精度是過去標準平臺的三倍,生產(chǎn)能力更是比先前高出50%,此外GEMINI FB XT平臺還為半導體行業(yè)應用3D-IC及硅片通道技術掃清了幾大關鍵障礙,使半導體行業(yè)能夠在未來不斷提升設備密度,強化設備機能,同時又無需求助于越發(fā)昂貴復雜的光刻工藝技術。 晶圓對晶圓鍵合是激活諸如堆疊式內存,邏輯記
- 關鍵字: EVG 晶圓 GEMINI FB XT
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